化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。

化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等?；瘜W(xué)拋光對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對(duì)于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件，可采用化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光工藝流程

　　 化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序

化學(xué)拋光比較適用于SUS304和SUS316不銹鋼的拋光處理，適用于批量大的精密零部件，可以快速去除表面毛刺、雜質(zhì)，批峰，使不銹鋼表面平整，光亮，持久如新。但對(duì)于SUS400系列的不銹鋼表面拋光處理，建議選用森源不銹鋼電解拋光加工工藝處理，成本低，拋光效果好。同時(shí)還能提高不銹鋼表面的耐腐蝕性能?；瘜W(xué)拋光具有更光滑的微觀表面和反光率,使設(shè)備不粘壁、不掛料、易清洗,能徹底清除工件表面污垢和油脂。它在篩選過(guò)濾機(jī)械、石油化工反應(yīng)釜、衛(wèi)生及建筑裝飾等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

化學(xué)拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢(shì)，在化學(xué)溶液中會(huì)產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過(guò)程中試樣面表層會(huì)產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。

化學(xué)拋光的原理 金屬材料或制件在配比合理的腐蝕劑、氧化劑、添加劑組成的拋光溶液中浸 蝕,經(jīng)發(fā)生一系列反應(yīng)后,表面變得潔凈光亮,稱(chēng)為化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光一般是指在化學(xué)溶液中，不接通外部電源，利用化學(xué)侵蝕對(duì)工件表面進(jìn)行拋光的一個(gè)過(guò)程。在化學(xué)拋光進(jìn)行時(shí)，從微觀層面看，因?yàn)?，金屬表面?huì)形成類(lèi)似電解拋光過(guò)程中形成的黏膜或者鈍化膜，所以，是表面微觀凸出部分的溶解速度，要明顯大于微光凹入部分，所以，提升了零件表面微觀平整度，從而達(dá)到零件表面的光亮平整。