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輕金屬微弧氧化價(jià)格按需定制「日照微弧技術(shù)」

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發(fā)布時(shí)間:2021-09-15 22:39  






微弧氧化原理

       微弧氧化或等離子體電解氧化表面陶瓷化技術(shù),是指在普通陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)上,微弧氧化技術(shù) 利用弧光放電增強(qiáng)并ji活在陽(yáng)極上發(fā)生的反應(yīng),從而在以鋁、鈦、鎂等金屬及其合金為材料的工件表面形成的強(qiáng)化陶瓷膜的方法,微弧氧化電源是通過用的微弧氧化電源在工件上施加電壓,微弧氧化使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,在工件表面形成微弧放電,在高溫、電場(chǎng)等因素的作用下,金屬表面形成陶瓷膜,達(dá)到工件表面強(qiáng)化的目的。為什么要進(jìn)行微弧氧化預(yù)處理微弧氧化預(yù)處理預(yù)處理的原因是由于鋁、鐵等合金長(zhǎng)時(shí)間放置在空氣中,表面易發(fā)生氧化,生成一層幾個(gè)微米的鈍化膜,同時(shí),其表面又極易吸附周圍環(huán)境中的雜質(zhì),形成表面吸附層。


微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔(孔徑為幾微米)、內(nèi)部致密的陶瓷層。 膜層硬度高(維氏硬度可由幾百至三千左右) 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

2、微弧氧化技術(shù)絕緣性好耐熱性高,可承受高溫使用,范圍根據(jù)基材熔點(diǎn)溫度 有良好的絕緣性能,絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)工藝


微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)是什么

微弧氧化技術(shù)是新型的環(huán)保的技術(shù),下面咱們一起了解一下微弧氧化技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)。

1、微弧氧化有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達(dá)100mω。

2、微弧氧化電解溶液為環(huán)保型,符合環(huán)保排放要求。

3、微弧氧化工藝穩(wěn)定可靠,設(shè)備工藝簡(jiǎn)單,.

4、微弧氧化反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,操作方便,易于掌握。

5、微弧氧化的基體原位生長(zhǎng)陶瓷膜,結(jié)合牢固,陶瓷膜致密均勻。此工藝可代替并優(yōu)于陽(yáng)極氧化工藝。


影響微弧氧化的因素

1、微弧氧化時(shí)間的影響:微弧氧化時(shí)間一般控制在10~60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng),膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。

2、陰極材料:微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料。由于微弧氧化電解液多為堿性液,故陰極材料可采用碳鋼,不銹鋼或鎳。其方式可采用懸掛或以上述材料制作的電解槽作為陰極。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)


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