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發(fā)布時間：2021-10-22 03:32

化學清洗原理化學清洗是利用無機酸與灰垢發(fā)生化學反應

生成可溶性的鹽而將灰垢清理的一種技術。在化學反應中產生的CO2氣體可對灰垢產生剝離作用，使部分灰垢脫落而被清洗液帶出管外。但是CO2氣體也會聚積于輸灰管道的高點或管道的上部，形成氣阻，造成酸洗液與管頂灰垢隔離，使管內的灰垢不能充分與酸洗液接觸發(fā)生反應。致使管道底部灰垢已干凈，管道頂部還有大量余垢未清洗掉，可能產生管道頂垢塌落，造成堵管等事故。為防止此情況的發(fā)生，在清洗時需在管道頂部加些排氣裝置及時排氣。

酸與灰垢的反應如下：

CaCO3＋2H =Ca2 H2O CO2↑

針對火電廠輸灰管道化學清洗工藝中存在的問題——酸對金屬的腐蝕及在酸洗過程中產生氣阻造成灰垢塌落甚至堵管的危害，已有廠家研制出了新的藥劑。為酸洗工藝過程中減少腐蝕和危害，提高酸的利用率提供了保障。如清洗時為抑制酸洗液對管道的腐蝕，在酸洗液中添加緩蝕劑。為防止反應產生的二氧化碳聚積在管內產生氣阻，使灰垢不能與酸洗液充分反應，在酸洗液中加入一定量的清洗助劑。

工業(yè)設備如何清洗?工業(yè)設備清洗方法

工業(yè)清洗是物體表面受到物理、化學或生物的作用而形成的污染層或覆蓋層稱作污垢，去除這些污染物或覆蓋層而使其恢復原表面狀況的過程稱為清洗。

工業(yè)設備清洗方法

物理清洗和化學清洗

1.物理清洗是利用力學、聲學、光學、電學、熱學的原理，依靠外來能的作用，如機械摩擦、超聲波、負壓、高壓、沖擊、紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢而不改變污類組分的清洗方法。即不改變原來的化學分子組分的方法。

①機械清洗法：清掃器和清理法、鉆管清洗法、噴丸清洗法。

②水力清洗法：低壓水力清洗(低壓清洗的壓力為196-686千帕，大約2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa)。

③高壓水力清洗：高壓清洗的壓力為4900千帕，大約50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機。

EDTA二鈉鹽清洗工藝用核算用量的去離子水制造EDTA二鈉鹽溶液

用NaOH調度pH至5．2左右，加熱到90℃以上送入鍋爐，熄滅加熱鍋爐，使清洗液溫度達135～140℃，每15～20min取樣，剖析EDTA、Fe2’、Fe3’離子濃度及pH值。普通經4～5h清洗，清洗液pH值可達8～8．5。此刻，F(xiàn)e3’離子濃度不再升高，即可以為清洗完畢，而且金屬外表已進入鈍態(tài)。放出的清洗液中的EDTA能夠收回。 EDTA二鈉鹽合適于鏟除高含量的低價鐵的氧化物垢。假定垢中鐵的氧化物含量低于65％，則不如改用其他清洗辦法作用更好。假定垢中二氧化硅的含量逾越5％，它的清洗作用會顯著降落。若垢中銅含量高于5％，則應在清洗氧化鐵之后，加1％～1．5％的氯水和O．2％的過硫酸銨除銅，或用ACR法除銅。

4.3鹽酸與的混酸清洗

當水垢中含有碳酸鈣垢、鐵垢及二氧化硅時，不能總用清洗，由于會發(fā)作難溶的氟化鈣而影響清洗。當水垢中二氧化硅的含量很小時，可單獨用鹽酸鏟除上述污垢。但當二氧化硅含量大于10％時，單獨用鹽酸清洗就難以收效，此刻可運用鹽酸和的混酸來去除含硅的水垢。在運用鹽酸和的混酸清洗時，普通控制總酸濃度在10％左右， HCI：HF=8：2，在30～40℃下清洗。普通，當Si02含量在10％左右，HF的濃度為1％；Si02含量在15％時，HF的濃度應為2％；當Si02含量大于20％時，HF的濃度應為3％。酸洗時添加緩蝕劑，酸洗后要停止水沖刷和鈍化。