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高純氦氣存放怎么存放?
高純氦氣存放:
決定物料或產(chǎn)品的特征數(shù)量值,進(jìn)行數(shù)量數(shù)量仲裁等等。常壓下儲(chǔ)存氣體。常壓易溶于常溫,其儲(chǔ)藏設(shè)備有球罐、臥罐等類型的壓力容器。冷卻減壓貯存氣溫一般在0~15℃之間,油罐壓力一般在0.2~0.5兆帕之間。常壓低溫貯藏氣瓶裝氣應(yīng)放置在通風(fēng)良好的地方,與火源、熱源間隔1.5米以上。不允許使用火烤,沸水燙或在太陽下暴曬。
切割水下燃燒的燃燒器分為三種:①氧、乙卻和壓縮空氣(水深可達(dá)15m);②氫氣和壓縮空氣(水深可達(dá)40m);③用氧氣和液體燃料(水深可達(dá)60m)切割10mm鋼板的每米氧消耗為1.2m3。氧弧焊可以焊接硅鋼。氧氣弧焊采用氧氣與二氧化碳二元混合物作為維持氣體的電弧焊,氧氣份額高達(dá)20 60。產(chǎn)業(yè)用氮是缺乏戰(zhàn)略資源。具體而言,幾乎所有相關(guān)產(chǎn)品都是進(jìn)口的。
高純氣體廠家的氣瓶瓶閥使用需要注意哪些事項(xiàng)
一、使用瓶閥的材料不與瓶?jī)?nèi)盛有的氣體發(fā)生化學(xué)放應(yīng),也不影響氣體的質(zhì)量。要根據(jù)氣體的性質(zhì)選用合適材質(zhì)的瓶閥。對(duì)強(qiáng)腐蝕性或有毒氣體如H2S、HCl、NO2,需要使用國(guó)外進(jìn)口不銹鋼瓶閥以保證使用及儲(chǔ)存的安全。
二、瓶閥出氣口的結(jié)構(gòu),能有效地防止氣體錯(cuò)裝,錯(cuò)用??扇夹詺怏w的出口螺紋為左旋反牙,非可燃性氣體的出口螺紋為右旋正牙。
三、 強(qiáng)氧化性氣體的鹽城氣體瓶閥材料,必須選用無油脂的阻燃材料;與其接觸的工具和相連的設(shè)備嚴(yán)禁帶有油脂。
四、貯存和運(yùn)輸工程中,必須配戴好瓶帽,以防傾倒、撞擊損傷瓶閥。
五、開啟瓶閥使用前,必須先確定與其相連的設(shè)備各接口的緊固情況,設(shè)備的良好狀態(tài)。
工業(yè)氣體低溫液體泵在運(yùn)作全過程中施壓慢、或打空車
工業(yè)氣體低溫泵施壓慢或打空車通常狀況外有3個(gè)緣故:1進(jìn)液閥、2出液閥、3活塞環(huán)。
常見故障剖析及清除:工業(yè)氣體泵出現(xiàn)施壓慢或是空車問題時(shí),先拆卸泵頭后查詢進(jìn)液閥工業(yè)氣體是不是由于應(yīng)用期限太長(zhǎng)硬件配置一部分有沒有比較嚴(yán)重?fù)p壞,另查詢是不是有內(nèi)漏的問題,工業(yè)氣體在有標(biāo)準(zhǔn)的狀況下要檢漏,再者工業(yè)氣體查詢活塞環(huán)有沒有比較嚴(yán)重?fù)p壞或在泵打空車時(shí)由于工業(yè)氣體干磨而造成燒毀。查驗(yàn)泵出液口波動(dòng)閥與泵殼突面是不是密封性,通常突面和波動(dòng)閥比較嚴(yán)重形變的幾眼就能見到,但做密封性試驗(yàn)實(shí)際效果顯著。
融合左右3點(diǎn),另一個(gè)泵頭應(yīng)用時(shí)間較長(zhǎng)、泵腔里的密封性銅墊也會(huì)造成工業(yè)氣體施壓慢等狀況。倘若清除左右狀況,還要從別的層面去搜索緣故。例如(加工工藝管路步驟、儲(chǔ)存罐液位儀、液體的應(yīng)用及貯備時(shí)間等)。
氮?dú)?/strong>的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不活潑 只有在高溫高壓或者是放電的情況下才進(jìn)行反應(yīng) 而且0毒無污染,來源廣泛,市場(chǎng)價(jià)值便宜,通常都是用于做標(biāo)準(zhǔn)氣體的底氣。下面一起看拿下高純氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體的選擇技巧。
通常,人們常用百分濃度來轟示氣體的純度,即所謂用幾個(gè)“9”字的表示法。例如,某種氣體濃度為99.9%,表示含有0.1% 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念,顯然,濃度為99.995%的氣體比99.99%的氣體更純,人們使用起來似乎能更放心。但是,如果在選擇純度時(shí)限于這種考慮,則不論對(duì)科研或生產(chǎn)都將有不利的影響。如果只作這樣的考慮,顯然忽視了兩個(gè)主要因素,即高純氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體的價(jià)格和所含雜質(zhì)的危害性?!?
獲得7個(gè)“9”以上的超高純氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體,現(xiàn)已相當(dāng)困難,除在實(shí)驗(yàn)室中能提供一部分外,在一般工業(yè)生產(chǎn)中難以大量提供。因此,從經(jīng)濟(jì)上來說,單純追求“9”字?jǐn)?shù)目的純氣體,除了在科研中還能有條件地接受之外,在一般生產(chǎn)上是根本無法接受的。
我們應(yīng)該從氣體中所含雜質(zhì)的濃度和該雜質(zhì)對(duì)本工藝的危害性角度出發(fā)來選擇使用高純氣體。這是因?yàn)槟壳耙箽怏w中的雜質(zhì)總量降到lppm以下雖然是困難的,但對(duì)將單項(xiàng)有害雜質(zhì)降到l×10-9或更低的水平還是可能的。按目前的工藝水平,硅中雜質(zhì)總含量不會(huì)低于10-8(1ppm)的水平,但是,對(duì)其中有危害的電活性雜質(zhì)磷、硼等的單項(xiàng)控制,巳達(dá)1×10-8 ~l×10-10 。(即O.1~O.O1ppb)的水平。