無塵涂裝生產(chǎn)線控制器設計要求

靜電噴涂的質量的好壞在于對噴涂粉料的靜電參數(shù)和繼續(xù)安穩(wěn)的噴粉量有關，而噴粉量又與供粉桶上的抽粉泵的流速氣壓有關，噴涂的粉末需求杰出的霧化開來才干確保涂層均勻。根據(jù)靜電噴涂的原理，在靜電粉末涂裝時，粉末粒子帶電，借助于庫侖力吸附到工件表面。庫侖力越大，靜電吸附的效果越好。鍵盤處理：首先確定無塵涂裝生產(chǎn)線是否存在按鍵（按鈕計數(shù)標記uKeyChanged大于0），然后在執(zhí)行按鍵讀取和按鍵處理子程序之前按下按鍵。

無塵涂裝生產(chǎn)線庫侖力可用公式表明:

從上式能夠看出，靜電電壓越高，粉末粒子帶的電荷Q越多，庫侖力F越大，吸附效果越好。并且靜電電壓過低，則不足以讓空氣構成電暈放電使涂料帶點?？墒侨綮o電電壓過高，或許導致粉末介質擊穿，使涂層呈現(xiàn)縮孔針狀。通過采樣和測量噴槍的輸出電壓，輸出電流和反饋電流信號來實現(xiàn)控制電壓和控制電流輸出的閉環(huán)控制。所以電壓需求控制在必定的范圍內(nèi)，這樣會使帶電粉末的量添加，則粉料的附著量增大;在必定范圍內(nèi)也會有利于前進工件轉角處的噴涂效果。

另一方面庫侖力又與噴槍和工件之間的距離h的平方成反比，所以無塵涂裝生產(chǎn)線與工件之間的距離越近，庫侖力越大，吸附的效果越好。噴槍與工件的距離大小能是電場強度發(fā)生改變，因而噴涂距離將會直接影響粉料涂層的厚度和沉積功率。噴涂距離太大，粉末沉積下降;噴涂距離太小，有時會擊穿粉末，發(fā)生打火現(xiàn)象或吹散吸附的粉末。無塵涂裝生產(chǎn)線顯示：在自檢狀態(tài)下，各數(shù)字管的參數(shù)顯示子程序依次調用鍵顯示模塊顯示參數(shù)1s，用于檢查硬件是否處于良好狀態(tài)。

無塵涂裝生產(chǎn)線RS485通信模塊設計考慮到內(nèi)部通信協(xié)調器與靜電噴涂控制柜靜電噴涂控制器之間的一對多關系，以及傳輸速率等因素，選擇RS48_5通信模式，并進行通信協(xié)議采用半雙工通信，無塵涂裝生產(chǎn)線支持總線拓撲，多個控制器可以安裝在靜電噴涂控制柜通信協(xié)調器的RS48_5通信網(wǎng)絡中，符合設計要求。根據(jù)靜電噴涂控制柜的設計要求，通信協(xié)調板主要分為六個模塊：電源模塊，MCU模塊，RS48_5模塊，固態(tài)繼電器輸出模塊，以太網(wǎng)以太網(wǎng)接口模塊，EEPROM存儲模塊。噴涂區(qū)設備主要包含:供粉設備、噴涂操控器、噴槍、往復機、噴粉室、粉末回收設備等。

由于無塵涂裝生產(chǎn)線通信協(xié)調器設計用于安裝多達40個控制單元以進行協(xié)同操作，因此需要40個觸發(fā)IO，以及SPI接口，USART接口和以太網(wǎng)接口等外設。因此，通信協(xié)調板選擇封裝為LQFP100的STM32F407。為通信協(xié)調板的每個模塊設計和分析主控制MCUo。 EEPROM存儲模塊使用2_SLC640和靜電噴涂控制器來控制主板?？刂破鞑僮髅姘鍙目刂浦靼褰邮諟y量參數(shù)和狀態(tài)參數(shù)的數(shù)據(jù)，并將數(shù)據(jù)放入RS48_5傳輸緩沖區(qū)中，以便上傳到協(xié)調器。 RS48_5通信模塊與操作面板相同，我們不再贅述。

本文設計的靜電噴涂控制器采用Pt控制算法，雖然可以實現(xiàn)更好的參數(shù)控制，但是噴涂操作仍然需要人工經(jīng)驗來配置參數(shù)，對人的依賴性程度仍然很高。在控制算法中加入自學習控制策略，實現(xiàn)噴霧參數(shù)的優(yōu)化。無塵涂裝生產(chǎn)線整個系統(tǒng)的實現(xiàn)尚未完成。在PLC控制系統(tǒng)的實現(xiàn)中，采用光幕測量傳感器檢測工件的傳輸速度、尺寸和高度，并設計了上位機的軟件?，F(xiàn)如今，智能設備是未來的開展趨勢，操控器不再是單純的參數(shù)操控，更多的需要與操控體系交互，作為整個操控體系的一部分，能夠完成長途監(jiān)控。無塵涂裝生產(chǎn)線對于整個生產(chǎn)線，系統(tǒng)設計可以擴展到傳動鏈控制、干燥室固化區(qū)溫度控制等多個方面。

靜電法稱為真空靜電噴涂。過去，靜電噴涂技術還不夠完善，技術相對落后。但現(xiàn)在我們研制的靜電噴涂在真空環(huán)境下能很好地實現(xiàn)凹凸面噴涂。無塵涂裝生產(chǎn)線由于在充滿凹坑的設備上噴涂不均勻、設備表面灰塵過多、噴涂過程中涂料使用過多，具有非常廣闊的應用前景。涂層的厚度與供粉量成正比，噴涂一段時間后，涂層的厚度添加減慢，再增大供粉量時，沉積率減小，使收回粉添加。在總結真空靜電噴涂技術的基礎上，對真空靜電噴涂技術的改進提出了建議，并對涂層數(shù)據(jù)的改進提出了建議。