【廣告】
經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導(dǎo)體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
蝕刻:一種將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而du移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻,指通過(guò)曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
自然干燥時(shí)間過(guò)長(zhǎng)造成暗感光。
一般絲網(wǎng)印刷在上膠后用 38-40攝氏度烘干,完成zhi烘干后的網(wǎng)版必須盡快曝光/顯影。
如果制版數(shù)量很大,不需要使用烘干設(shè)備,可以考慮存放于空調(diào)房間(25攝氏度),這樣可以延長(zhǎng)未曝光前的保存時(shí)間。但是上膠后的網(wǎng)版,一般不允許存放超過(guò)4-6小時(shí)。1,可能是感光膠與重氮感光劑配比不正確。
2,可能是配置好的zhi感光膠存放于光亮處或溫度較高的地方,或存放時(shí)間過(guò)長(zhǎng),放置超過(guò)72小時(shí)。
3,可能是上膠后的絲網(wǎng)烘干溫度過(guò)高或時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。