棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。4、漆面拋光前建議先用洗車泥擦拭，去除油漆表面附著的表層顆粒和污染物。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

拋光時(shí)，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對(duì)工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時(shí)，可對(duì)光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時(shí)，常采用滾筒拋光的方法。063μm，由于電解拋光、流體拋光等方法很難精l確控制零件的幾何精l確度，而化學(xué)拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又達(dá)不到要求，所以精密不銹鋼的鏡面加工還是以機(jī)械拋光為主。粗拋時(shí)將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中，滾筒轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，使鋼球與磨料等在筒內(nèi)隨機(jī)地滾動(dòng)碰撞以達(dá)到去除表面凸鋒而減小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用，從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用，從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)?；瘜W(xué)拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內(nèi)表面和形狀復(fù)雜的工件，不需要外加電源、設(shè)備，操作簡(jiǎn)單、成本低。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。電化學(xué)拋光過程分為兩步：(1)宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。夾具選用鈦?zhàn)鰭炀?，因?yàn)殁佪^耐腐蝕，壽命長(zhǎng)，鈦離子對(duì)槽液無影響。電化學(xué)拋光過程分為兩步： (1) 宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。 (2) 微光平整 陽極極化，表面光亮度提高，Ra<1μm。

化學(xué)拋光時(shí)，溶解速度隨著拋光液溫度的提高而顯著地增加。此外，強(qiáng)氧化性酸在高溫時(shí)氧化作用也會(huì)顯著提高。

化學(xué)拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內(nèi)表面和形狀復(fù)雜的工件，不需要外加電源、設(shè)備，操作簡(jiǎn)單、成本低。其缺點(diǎn)是化學(xué)拋光效果比電解拋光效果差，拋光過程中會(huì)產(chǎn)生氮氧化合物等環(huán)境污染物，而且拋光液用后處理較麻煩。