儀一六儀器 快速精準(zhǔn)分析膜厚儀穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),先進(jìn)的解譜方法，解決各種大小多層多元素的涂鍍層厚度分析，

微聚焦射線裝置:可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品,可測(cè)試各微小的部件.

測(cè)厚儀分類：

一、磁性式

二、渦電流式

三、紅外測(cè)厚儀

四、電解式（庫(kù)倫法）

五、金相測(cè)試法

六、非破壞熒光式（X光）

1.渦流測(cè)厚儀當(dāng)載有高頻電流的探頭線圈置于被測(cè)金屬表面時(shí)，由于高頻磁場(chǎng)的作用而使金屬體內(nèi)產(chǎn)生渦流，此渦liu產(chǎn)生的磁場(chǎng)又反作用于探頭線圈，使其阻抗發(fā)生變化，此變化量與探頭線圈離金屬表面的距離（即覆蓋層的厚度）有關(guān)，因而根據(jù)探頭線圈阻抗的變化可間接測(cè)量金屬表面覆蓋層的厚度。手持式的磁感應(yīng)原理是，利用從測(cè)頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測(cè)定覆層厚度。常用于測(cè)定鋁材上的氧化膜或鋁、銅表面上其他絕緣覆蓋層的厚度。

2.同位素測(cè)厚儀利用物質(zhì)厚度不同對(duì)輻射的吸收與散射不同的原理，可以測(cè)定薄鋼板、薄銅板、薄鋁板、硅鋼片、合金片等金屬材料及橡膠片，塑料膜，紙張等的厚度。常用的同位素射線有γ射線、β射線等。

一六儀器  一liu品質(zhì)！各種涂鍍層、膜層的檢測(cè)難題歡迎咨詢聯(lián)系！

影響涂層測(cè)厚儀精準(zhǔn)度的因素有哪些

  影響涂層測(cè)厚儀精準(zhǔn)度的因素有哪些？生產(chǎn)產(chǎn)品過程中，可能就因?yàn)橐稽c(diǎn)點(diǎn)的誤差，可能這批產(chǎn)品就成了報(bào)廢品，而這種情況在批量生產(chǎn)的廠家中為常見，也是需要注意的一個(gè)點(diǎn)。因此我們也就得對(duì)影響涂層測(cè)厚儀精準(zhǔn)度的因素有所了解了。

(4) 在系統(tǒng)校準(zhǔn)時(shí)沒有選擇合適的基體?；w較面為7mm，較小厚度為0.2mm，低于此臨界條件測(cè)量是不可靠的。

   (5)儀器發(fā)生故障。此時(shí)可以和技術(shù)人員交流或者返廠維修。

鍍層測(cè)厚儀|光譜測(cè)厚儀|X-ray測(cè)厚儀|X熒光測(cè)厚儀|凃?qū)幽ず駜x----一六儀器

X射線測(cè)厚儀測(cè)量精度的影響因素有哪些

第二,在X射線測(cè)厚儀通過施加高壓釋放出X射線時(shí),X射線途經(jīng)環(huán)境的溫度濕度也會(huì)影響X射線對(duì)被測(cè)物體的測(cè)量。尤其是在熱軋的過程中,測(cè)量的空間大X射線途經(jīng)的環(huán)境就比較大,當(dāng)溫度高時(shí),測(cè)量值減小,當(dāng)溫度低時(shí),測(cè)量值則增加。

第三,在測(cè)量過程中,被測(cè)物體上,可能會(huì)有附著物,也會(huì)影響測(cè)量的精度。另外,被測(cè)量的物體,可能會(huì)上下跳動(dòng),偏離測(cè)量時(shí)的位置,這種傾斜也會(huì)影響測(cè)量的精度。比如,在軋制生產(chǎn)中,測(cè)量的鋼板上可能會(huì)附著著水、油或者氧化物,這都會(huì)對(duì)X射線測(cè)厚儀的測(cè)量值造成影響,出現(xiàn)誤差。另外,被測(cè)量的物體,可能會(huì)上下跳動(dòng),偏離測(cè)量時(shí)的位置,這種傾斜也會(huì)影響測(cè)量的精度。 

X射線熒光的基本原理

一六儀器X射線熒光測(cè)厚儀 研發(fā)生產(chǎn)廠家 品質(zhì)保證

江蘇一六儀器有限公司研發(fā)的能量色散X熒光光譜儀具有穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析，歡迎來電咨詢！

當(dāng)X射線激發(fā)出試樣特征X射線時(shí)，其入射電磁輻射能量必須大于某一個(gè)值才能引起其內(nèi)層電子激發(fā)態(tài)從而形成空穴并引起電子的躍遷，這個(gè)值是吸收限，相當(dāng)于內(nèi)層電子的功函數(shù)。激光測(cè)厚儀的優(yōu)點(diǎn)在于它采用的是非接觸的測(cè)量，相對(duì)接觸式測(cè)厚儀更精準(zhǔn)，不會(huì)因?yàn)槟p而損失精度。如果入射電磁輻射的能量低于吸收限則在任何情況下都不能激發(fā)原子內(nèi)層電子并產(chǎn)生特征X射線。

X射線的激發(fā)

   如果要得到某元素的特征X射線，需要對(duì)元素原子內(nèi)層電子進(jìn)行激發(fā)，使得內(nèi)層電子獲得一定能量，能夠脫離原子核的束縛，從而在內(nèi)層軌道形成電子空穴，當(dāng)較高能級(jí)電子填補(bǔ)這一空穴時(shí)，才會(huì)發(fā)射一定能量的特征X射線，這個(gè)過程就是X射線的激發(fā)。