四種常見(jiàn)的真空鍍膜材料

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物：氟化釹NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化鎂MgF2，LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦合金CuInGa，銅銦硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。溶液凝膠法：也稱雙面鍍膜浸漬法，鍍膜方法是將玻璃浸漬在化學(xué)溶液中，在玻璃表面形成一層薄膜，此化學(xué)膜層粘附在玻璃之表面上，膜厚可通過(guò)50％的入射線，其余反射掉，吸收光線很少。

在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過(guò)不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。Parylene具有優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性和低溫性能，在幾乎不改變器件尺寸的情況下提供1。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來(lái)更多的精彩。

 真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來(lái)自工件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、 機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過(guò)程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。

塑料在真空鍍膜前為何要涂層？       

大多數(shù)塑料在真空鍍膜之前，一般先要涂覆底涂層，主要原因是有以下幾點(diǎn)：

 一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

真空鍍膜層很薄，很難掩蓋基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技術(shù)，光固化涂層厚度約10~20um，涂層自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高鍍層的光亮度。