真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡便型光學鍍膜系統(tǒng)，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應用小規(guī)格設備進行光學鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產(chǎn)品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。

鍍膜機鍍膜工藝的時候該如何調(diào)試和掌控均勻性

從開機，到鍍膜整套流程完成，都離不開調(diào)試機器機這一環(huán)節(jié)，因此想要成為一位專業(yè)的鍍膜技術(shù)人員，調(diào)試鍍膜機方法和技巧是必須要掌握的要領(lǐng)。特別是新員工，剛上手鍍膜工藝的時候，經(jīng)常會出現(xiàn)鍍膜機調(diào)試不達標，鍍膜均勻性把控不好，因此而煩惱。下面至成真空小編為大家講解一下，關(guān)于真空鍍膜機該如何進行時調(diào)試和鍍膜的時候如何把控好鍍膜均勻性，才能順利完成鍍膜整個流程。

首先需要先測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；然后再測試設備的密封性能，就是抽到極限后保壓1小時看壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；第三步，產(chǎn)品試作，檢驗其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；如果有工藝保證的話就繼續(xù)打樣并作測試；并且所有的測試應作記錄，并有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人確認簽字即可。對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。

鍍膜涂裝設備對現(xiàn)代化的重要性

無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的，其特點主要集中在能夠連續(xù)大量抽氣，可以獲得清潔無油的超高真空。并且該系統(tǒng)啟動時間快，停泵時間短。但是該系統(tǒng)抽重氣體比抽輕氣體快，對水蒸氣類型的的抽速比較慢，當氣體大量經(jīng)過泵的時候，抽速就會下降的很快。 這兩種真空鍍膜設備各有各的優(yōu)點和缺點，使用者應該考慮自己的需求來進行選購。