化學(xué)拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢，在化學(xué)溶液中會產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過程中試樣面表層會產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達到十分理想的要求。

在化學(xué)拋光過程中，金屬零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強于后者。由于零件表面微觀的不一致性，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始終同時進行，只是其速率有差異，結(jié)果使金屬零件表面粗糙度得以整平，從而獲得平滑光亮的表面?；瘜W(xué)拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力。

化學(xué)拋光僅僅是浸漬作業(yè)，操作簡單。而電解研磨拋光需要大容量直流電，還要合理設(shè)置電流對極，控制電流電壓，操作工藝復(fù)雜，質(zhì)量控制困難，有些特殊工件還不能處理?；瘜W(xué)拋光：將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學(xué)溶液中，靠化學(xué)能量自然溶解金屬表面，獲得平滑光亮的表面。其中化學(xué)拋光具有節(jié)能、操作簡單方便以及不受工件形狀限制等優(yōu)勢被人們所使用。不管是對不銹鋼還是銅合金,傳統(tǒng)的三大類化學(xué)拋光液中,含有的拋光液會釋放出氮氧化物等有害氣體,對環(huán)境和操作人員的身體都有一定的影響;含有重鉻酸鹽的拋光液中含有Cr~(6 )有毒有害物質(zhì),對環(huán)境有著一定污染;含有的拋光液拋光效果不穩(wěn)定、拋光效率低等問題。所以傳統(tǒng)的拋光液都存在各自的弊端和不足,化學(xué)拋光技術(shù)也仍需要不斷地發(fā)展。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法?；瘜W(xué)拋光設(shè)備簡單，能夠處理細管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護措施直接使用。

化學(xué)拋光同機械拋光相比，是一種更為先進、更為科學(xué)的拋光方法，其特點為：可用于機械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，具有不規(guī)則凹、凸結(jié)構(gòu)的制件，狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面，精細薄小的制件等。