焦硫1酸鉀、硫1酸氫鉀等酸性溶劑和含硫化物的溶劑不能用于鎳坩堝。若要熔融含硫化合物時(shí)，應(yīng)在有過量過氧1化鈉的氧化環(huán)境下進(jìn)行。熔融狀態(tài)的鋁、鋅、錫、鉛等的金屬鹽能使鎳坩堝變脆。銀、釩的化合物和硼砂等也不能在鎳坩堝中灼燒。新的鎳坩堝在使用前應(yīng)在700℃灼燒數(shù)分鐘，以除去油污并使其表面生成氧化膜，延長(zhǎng)使用壽命，處理后的坩堝應(yīng)呈暗綠色或灰黑色。半透明石英是由天然純凈的脈石英或石英砂制成的，因其含有許多熔煉時(shí)未排凈的氣泡而呈半透明狀。

注漿方法 中空注漿時(shí)，正在模壁吸附漿料達(dá)要求薄厚時(shí)，還需將盈余漿料倒出。加熱后表面會(huì)生成一層氧化銀，在高溫下不穩(wěn)定，但在200℃以下穩(wěn)定。為增添坯體延長(zhǎng)量、應(yīng)過分使用深?yuàn)W淺漿料。注漿成型是氧化鐵陶瓷使用較早的成型方法。一般以水為熔劑介質(zhì)，再加入剛剛玉莫來石匣缽解膠劑與粘結(jié)劑，充分研磨當(dāng)前排氣，而后倒寫入熟石膏模內(nèi)。由于采納熟石膏模、利潤(rùn)低且易于成型大尺度、形狀剛剛玉坩堝錯(cuò)雜的元件。注漿成型的要害是氧化鐵漿料的制備。由于匣缽熟石膏模毛細(xì)1血管對(duì)于潮氣的吸附，漿料遂固化正在模內(nèi)。

新的石墨坩堝煅燒不夠徹底即投入使用會(huì)造成石英坩堝外層嚴(yán)重析晶。盡管國(guó)外生產(chǎn)和國(guó)產(chǎn)的熱分析坩堝看起來都是干凈的，但是進(jìn)口的是在無塵空間里面生產(chǎn)潔凈度比較高，而國(guó)產(chǎn)的熱分析坩堝基本上達(dá)不到這一要求，坩堝為一陶瓷深底的碗狀容器。石墨坩堝因使用時(shí)間過長(zhǎng)，其原有的厚度氧化降解而大為減薄。坩堝在清洗的時(shí)候一般情況下不用水進(jìn)行直接的清洗，而是用稀鹽酸，這樣才能清洗的更加的干凈二期清洗完之后才會(huì)桄榔如新，但是這種鹽酸一定是要稀釋過的，不要弄純度太高的鹽酸，這樣會(huì)對(duì)鉑金坩堝造成一定的損害

坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。但多數(shù)硅酸鹽材料(水泥、陶瓷、玻璃)是混合物，含一定量雜質(zhì)SiO2。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。坩堝的主體原料，是結(jié)晶形天然石墨。故它保持著天然石墨原有的各種理化特性。坩堝具有良好的熱導(dǎo)性和耐高溫性，在高溫使用過程中，熱膨脹系數(shù)小，對(duì)急熱、急冷具有一定抗應(yīng)變性能