東研研磨機的配件耗材介紹

東研研磨機的配件耗材介紹 研磨機是研磨加工行業(yè)的核心設備，承擔著研磨行業(yè)整個加工效率。我們知道任何一個款機械設備都需要很多大小不一的配件來幫助完成運行，而研磨機的主要研磨耗材有研磨液、研磨盤、拋光皮、拋光布、拋光液等。 像東研的研磨液系列有很多款，鉆石研磨液312、320、330、340，研磨液的使用可以幫助研磨機提高研磨效率。東研的拋光皮常見的有粗磨皮、進口拋光皮，是研磨拋光工藝中非常普遍的耗材。前面有提到研磨液，那么相對的就有拋光液，東研的拋光液主要有銅/陶瓷拋光液、不銹鋼/鋁材拋光液、銀拋光液、鏡面拋光液以及鉆石拋光液。

東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機知識

東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機知識 研磨機在高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面這幾種表面要求加工的工件上的研磨工藝突出，研磨機在寶石、晶片、不銹鋼、汽車等行業(yè)的表面處理應用廣泛。 東研主要研發(fā)單面研磨拋光機和雙面研磨拋光機和翻轉機等研磨設備，單面研磨拋光機可廣泛應用于各類材料的單面研磨拋光，特別是針對超薄工件、越大工件、易碎工件有明顯的加工優(yōu)勢。而雙面研磨拋光機可廣泛應用于多種材料的雙面研磨拋光，研磨后可達到0.002毫米的平面誤差，使用性能穩(wěn)定。

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5～IT01，表面粗糙度可達Ra0.63～0.01微米。平面研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關于平面研磨機加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達IT5～01，表面粗糙度可達R0.63～0.01微米。 2、平面研磨機研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩(wěn)；④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

時間對平面拋光研磨機的拋光液PH的影響分析

時間對平面拋光研磨機的拋光液PH的影響分析 拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素，他是拋光元件化學拋光的重要組成部分。事實證明，當拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時，平面拋光研磨機拋光時的PH值應控制在11.25左右，這時候化學拋光和機械拋光的作用相平衡，拋光效果! 拋光液中PH值參數(shù)是衡量一種液體性能是否穩(wěn)定的重要因素。很多拋光液使用者并沒有清楚的意識到這一點，他們往往對拋光液內(nèi)的粒度分布，粒徑大小，均勻性，配比等感興趣，而忽略了一個重要的因素-PH值對整個液體狀的的影響。 在化學性質(zhì)的液體中，PH值的大小影響著液體性能的穩(wěn)定。拋光液一般在微酸或者微堿的時候，對平面拋光研磨機工件的拋光效果，所能達到的表面粗超度。當PH值偏堿性時，粗超度變大。所以在配置這種液體的時候，我們不能忽略這一點，一定要反復試驗，取得一個穩(wěn)定值。 拋光液的PH值是變化的。這是因為拋光液會隨著時間的變化而變化。由于某些工件在拋光時產(chǎn)生水解作用,在實際拋光過程中拋光液的pH值會隨拋光時間不斷變化。在每次添加拋光液后,pH值的變化為劇烈。因此一開始先每隔15s測量一次,之后每隔1min測量一次,從而可得出不同初始pH值的拋光液在拋光過程中pH值的變化規(guī)律。在對不含有堿金屬氧化物,不會與水產(chǎn)生水解反應,在平面拋光研磨機的拋光過程中拋光液的pH值基本保持不變,所以其拋光方法也不同。