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金華實(shí)驗(yàn)砂磨機(jī)廠家廠家供應(yīng) 東研機(jī)械科技有限公司

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發(fā)布時(shí)間:2021-08-29 17:09  







東研研磨機(jī)的配件耗材介紹

東研研磨機(jī)的配件耗材介紹 研磨機(jī)是研磨加工行業(yè)的核心設(shè)備,承擔(dān)著研磨行業(yè)整個(gè)加工效率。我們知道任何一個(gè)款機(jī)械設(shè)備都需要很多大小不一的配件來(lái)幫助完成運(yùn)行,而研磨機(jī)的主要研磨耗材有研磨液、研磨盤(pán)、拋光皮、拋光布、拋光液等。 像東研的研磨液系列有很多款,鉆石研磨液312、320、330、340,研磨液的使用可以幫助研磨機(jī)提高研磨效率。東研的拋光皮常見(jiàn)的有粗磨皮、進(jìn)口拋光皮,是研磨拋光工藝中非常普遍的耗材。前面有提到研磨液,那么相對(duì)的就有拋光液,東研的拋光液主要有銅/陶瓷拋光液、不銹鋼/鋁材拋光液、銀拋光液、鏡面拋光液以及鉆石拋光液。


切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了 研磨拋光,切割前應(yīng)對(duì)其定向,確定切割面,切割時(shí)首先將鋸片固定好,被切晶體材料固定好,切割速度選擇好,切割時(shí)不能不用切割液,它不僅能沖洗鋸片,而且還能減少由于切割發(fā)熱對(duì)晶體表面產(chǎn)生的損害,切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。 切割下來(lái)的晶片,要進(jìn)入下一道工序研磨。首先要用測(cè)厚儀分類(lèi)測(cè)量晶片的厚度進(jìn)行分組,將厚度相近的晶片對(duì)稱(chēng)粘在載料塊上。粘接前,要對(duì)晶片的周邊進(jìn)行倒角處理。粘片時(shí)載料塊溫度不易太高,只要固定臘溶化即可,晶片擺放在載料塊的外圈,粘片要對(duì)稱(chēng),而且要把晶片下面的空氣排凈(用鐵塊壓實(shí))。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。在研磨過(guò)程中適時(shí)測(cè)量減薄的厚度,直到工藝要求的公差尺寸為止。 使用研磨拋光機(jī)前要將設(shè)備清洗干凈,同時(shí)為保證磨盤(pán)的平整度,每次使用前都要進(jìn)行研盤(pán),研盤(pán)時(shí)將修整環(huán)和磨盤(pán)自磨,選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進(jìn)行,每次修盤(pán)時(shí)間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時(shí)晶片表面不受損傷,達(dá)到理想的研磨效果。 拋光前要檢查拋光布是否干凈,拋光布是否粘的平整,一定要干凈平整。進(jìn)行拋光時(shí),拋光液的流量不能小,要使拋光液在拋光布上充分飽和,一般拋光時(shí)間在一小時(shí)以上,期間不停機(jī),因?yàn)橥C(jī),化學(xué)反應(yīng)仍在進(jìn)行,而機(jī)械摩擦停止,造成腐蝕速率大于機(jī)械摩擦速率,而使晶片表面出現(xiàn)小坑點(diǎn)。 設(shè)備的清洗非常重要,清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后,都要認(rèn)真將設(shè)備里外清洗干凈。


淺說(shuō)平面研磨機(jī)工作時(shí)間和速度的聯(lián)系

淺說(shuō)平面研磨機(jī)工作時(shí)間和速度的聯(lián)系 平面研磨機(jī)工作的時(shí)間和速度這兩個(gè)研磨要素是密切相關(guān)的,與加工過(guò)程中工件所走過(guò)的路程成正比,研磨時(shí)間過(guò)長(zhǎng),不僅加工精度趨向穩(wěn)定不再提高,甚至?xí)蜻^(guò)熱變形喪失精度,并使研磨效率降低。實(shí)踐表明,在研磨的初始階段,工件幾何形狀誤差的消除和表面光潔度的改善較快,而后則逐步緩慢下來(lái)。 通過(guò)平面研磨機(jī)工作原理的分析可知;研磨開(kāi)始階段因有工件的原始粗鍵度及幾何形狀誤差,工件與研具接觸面積較小,使磨粒壓下較深。隨著研磨時(shí)間增加,磨粒壓下漸淺,通過(guò)工件橫截表面的磨粒增多,幾何形狀誤差很快變小而表面光潔度構(gòu)改善也較快。當(dāng)基本消除幾何形狀誤差之后,工件與研具上的磨粒接觸較多,此時(shí)磨粒壓下深度較淺,各點(diǎn)切削厚度趨于均勻。研磨時(shí)間再長(zhǎng)些,則通過(guò)工件橫截面磨粒數(shù)量增多,對(duì)工件精度的改善則變得緩慢了。超過(guò)一定的研磨時(shí)間之后,磨粒鈍化得更細(xì),壓下更淺,切削能力也更低了,并逐漸趨向穩(wěn)定。 對(duì)粗研磨來(lái)說(shuō),為獲得較高的研磨效率,平面研磨機(jī)研磨時(shí)問(wèn)主要應(yīng)根據(jù)磨粒的切削快慢來(lái)確定。對(duì)精研磨來(lái)說(shuō),實(shí)驗(yàn)曲線表明,研磨時(shí)問(wèn)在1~3分鐘范周,對(duì)研磨效果的改變已變緩,超過(guò)3分鐘,對(duì)研磨效果的提高沒(méi)有顯著變化。


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