真空鍍膜技術具有下列優(yōu)點：

薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。

鍍膜技術都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。

由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響鍍膜產品的質量。在進入鍍膜室之前，工件須在鍍膜前仔細清洗。為了避免加工過程中造成的缺陷，真空鍍膜廠家基本上可以通過脫脂或化學清洗的方式去除。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。派瑞林涂層材料

真空鍍膜技術的應用時較早的。真空鍍膜技術在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導體技術在電機學領域中的應用，又使這一技術成為晶體管制造和集成電路生產的必要工藝手段。近年來，隨著集成路向大規(guī)模和超大規(guī)模集成方向發(fā)展，從而又對真空鍍膜技術提出了新的要求。因而在電機學領域中又產生了一個新的分支一薄膜微電子學。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產品的質量。在進入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細清洗。