材料特性：衛(wèi)生保健、防腐蝕、優(yōu)良的可鑄性、出色的防腐蝕性、高強(qiáng)度、高硬度、原材料廉價(jià)、低熔點(diǎn)、抗蠕變、易與其他金屬形成合金、具有保健性、常溫下易碎、100攝氏度左右具有延展性。

典型用途： 電子產(chǎn)品元件。鋅是形成青銅的合金材料之一。鋅也有著清潔衛(wèi)生以及抗腐蝕的特性。另外，鋅也被應(yīng)用在屋頂材料，照片雕刻盤、移動(dòng)電話天線以及照相機(jī)中的快門裝置。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過(guò)氣相過(guò)程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。

【金屬表面組織強(qiáng)化】

表面組織強(qiáng)化方法是用機(jī)械、物理或化學(xué)等方法來(lái)改善材料表面的形貌、微觀組織結(jié)構(gòu)、缺陷狀態(tài)或應(yīng)力狀態(tài)，目的是使原來(lái)基體表面層（0.3-3 μm深度）獲得如下強(qiáng)化組織的一種或幾種：1）增加表面晶體缺陷（如位錯(cuò)密度等），2）獲得壓應(yīng)力狀態(tài)表層，3）表面形成硬化組織（如馬氏體等），4）表面晶粒細(xì)化或微晶化，5）表面非晶化。這種處理工藝主要包括切削、磨削、拋光、噴丸、噴砂、超音振蕩、感應(yīng)加熱、表面淬火、激光蝕刻等。另外還有部分化學(xué)處理過(guò)程也可歸為表面組織強(qiáng)化方法，比如酸、堿處理，處理以及電化學(xué)晶界腐蝕等。

清 潔

清潔是采用水、化學(xué)溶劑等物質(zhì)清除物體表面污垢的方法，對(duì)金屬表面污染物或覆蓋層進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化、溶解、剝離以達(dá)到除銹和去污的效果。

按清潔作用和原理：化學(xué)清潔，物理清潔，激光清潔；

化學(xué)清洗多是用化學(xué)溶液（如：清潔劑）按比例與水混合后再對(duì)金屬進(jìn)行清洗?；瘜W(xué)清洗的清洗能力強(qiáng)，去污速度快，成本低，但某些化學(xué)物質(zhì)處置不當(dāng)會(huì)對(duì)環(huán)境造成危害；