坩堝在使用過(guò)程中是有講究的，尤其是新電爐坩堝在使用中更是的注意了 為什么要這樣肯定的說(shuō)呢？下面可以通過(guò)以下要點(diǎn)了解下。

新電爐坩堝前5爐不宜安排冶煉高碳，高錳，高硅以及高合金鋼種。防止因鋼液滲入裂紋而發(fā)生漏鋼事故。初期可安排冶煉低碳含鉻鋼。

新電爐坩堝材料，裝料應(yīng)比較講究，杜絕熔化期出現(xiàn)“架橋”。要細(xì)心操作防止對(duì)坩堝壁產(chǎn)生大的沖擊。裝料量達(dá)到zui大值，延長(zhǎng)冶煉時(shí)間。

新電爐坩堝除細(xì)心操作外，還必須細(xì)心觀察漏鋼前兆。經(jīng)常觀察坩堝壁是否有異色；供電電壓是否向下波動(dòng)，電流是否向上波動(dòng)等。出現(xiàn)異常情況應(yīng)立即停電檢查，以免發(fā)生漏鋼事故。同時(shí)，還應(yīng)觀察感應(yīng)器匝間的絕緣情況是否良好。 出鋼后應(yīng)檢查坩堝內(nèi)表面是否有亮點(diǎn)區(qū)或裂紋，特別是環(huán)狀橫向裂紋，縱裂紋通常危害性小。坩堝產(chǎn)品使用須知1、坩堝規(guī)格號(hào)即銅之容量（#/千克）2、石墨坩堝謹(jǐn)防潮濕，存放時(shí)必須放在干燥處或木架上。及時(shí)清理修補(bǔ)缺陷和渣線。

石墨坩堝具有很好的物化特性，它的熱導(dǎo)性和耐高溫性優(yōu)良，在使用時(shí)熱膨脹系數(shù)小，抗腐蝕性強(qiáng)，所以在冶金、鑄造和化工等行業(yè)被廣泛的使用。但是性質(zhì)再優(yōu)良的東西也需要很好的氧化才能更加正常、更加長(zhǎng)久的發(fā)揮作用，所以石墨坩堝養(yǎng)護(hù)也很重要。

1、石墨坩堝嚴(yán)防濕潤(rùn)，所以必須放在干燥處。

2、在搬運(yùn)時(shí)要輕拿輕放，不可以摔震。

3、在使用前要在干燥設(shè)備或者爐旁烘烤，溫度要逐漸上升到500度。

4、在像坩堝內(nèi)加料時(shí)，要考慮坩堝容量，不可以加料太多。

5、坩堝和爐壁之間要保持適當(dāng)?shù)木嚯x，一般要把坩堝放在爐內(nèi)中央。

坩堝耐高溫防氧化封閉涂料

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、ZS-1021封閉涂料是一種環(huán)保無(wú)1毒，能在石墨坩堝表面形成一種致密的保護(hù)層，具有極強(qiáng)的防銹、防腐蝕、防變色作用，防老化,使用方便、易操作.

2、ZS-1021封閉涂料本品無(wú)1毒，貯藏、使用穩(wěn)定性好。

3、ZS-1021封閉涂料經(jīng)在中性鹽霧試驗(yàn)和高溫高濕試驗(yàn)中，物體抗蝕能力提高3倍以上。金屬防變色能力比鉻酸鈍化提高20倍，在高溫的硫1化氫氣體腐蝕試驗(yàn)中，具有良好的抗老化效果。

4、ZS-1021封閉涂料膜層具有良好的附著力，較高的硬度和耐磨性。

涂料施工：

1、清洗、清除待涂刷物體表面的雜物及附著物。

2、高壓噴涂或是刷涂后用膠輥壓實(shí)。

3、根據(jù)不同的使用情況，涂刷1-5遍。

坩堝的使用注意事項(xiàng)：

1、坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家已用此坩堝取代了小的透明坩堝。切莫讓金屬液體凝固在坩堝中，否則在下次加熱使用時(shí)，金屬膨脹會(huì)把坩堝撐破。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。

2、石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。

3、除HF外，普通稀無(wú)機(jī)酸可用作清洗液。國(guó)內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國(guó)內(nèi)坩堝生產(chǎn)廠家生產(chǎn)的18和20英寸坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂主要由美國(guó)進(jìn)口。國(guó)內(nèi)產(chǎn)的石英砂純度都達(dá)不到其要求。涂裝坩堝的方法可分為加熱噴涂與滾涂?jī)煞N方法涂覆工藝，滾涂涂裝其技術(shù)工藝簡(jiǎn)單，涂裝涂層不均，時(shí)間長(zhǎng)，氮化硅使用量大，成本高，所以公司現(xiàn)使用的是較先進(jìn)工藝熱噴涂技術(shù)。其原料里雜質(zhì)在生產(chǎn)時(shí)高溫熔制過(guò)程中產(chǎn)生黑點(diǎn)氣泡等 對(duì)拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。

4、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。