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二、預(yù)烘和底膠涂覆(Pre-bake and Primer Vapor)
由于光刻膠中含有溶劑,所以對于涂好光刻膠的硅片需要在80度左右的。硅片脫水烘焙能去除圓片表面的潮氣、增強光刻膠與表面的黏附性、通常大約100 °C。這是與底膠涂覆合并進行的。
底膠涂覆增強光刻膠(PR)和圓片表面的黏附性。廣泛使用: (HMDS)、在PR旋轉(zhuǎn)涂覆前HMDS蒸氣涂覆、PR涂覆前用冷卻板冷卻圓片。
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6,堅膜
堅膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現(xiàn)象,能使膠膜附著能力增強,康腐蝕能力提高。堅膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140度 10-30min,7,顯影檢驗,光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準(zhǔn)不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡,針KONG、小島。在28nm生產(chǎn)線產(chǎn)能尚未得到釋放之前,ArF光刻膠仍是市場主流半導(dǎo)體應(yīng)用廣泛,需求增長持續(xù)性強。
8刻蝕
就是將涂膠前所墊基的薄膜中沒有被光刻膠覆蓋和保護的那部分進行腐蝕掉,達到將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到下層材料的目的。濕法刻蝕,SIO2,AL, Poly-Si 等薄膜,干法腐蝕。
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光刻膠存儲條件及操作防護
光刻膠是一種可燃液體,儲存條件應(yīng)符合對應(yīng)的法規(guī),不要與強氧化劑混合,存放在通風(fēng)良好的地方,保持容器密閉,避免吸入蒸汽或霧氣,避免接觸眼睛、皮膚或衣服,操作后徹底清洗。
個人防護
眼睛:佩戴化學(xué)飛濺護目鏡。
皮膚:戴上適當(dāng)?shù)姆雷o手套防止皮膚暴露。
服裝:穿戴合適的防護服防止皮膚暴露。
呼吸器:無論何時在工作環(huán)境下呼吸保護必須遵循中國職業(yè)安全健康管理局標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定和ANSI美國國家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會Z88.2的相關(guān)要求,或必須執(zhí)行歐洲呼吸防護EN 149的標(biāo)準(zhǔn)。