大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。特種氣體氣瓶存放區(qū)應(yīng)比較干燥，并有良好通風(fēng)，嚴(yán)禁明火和其它熱源，嚴(yán)禁曝曬可燃?xì)馄炕蜓鯕馄扛浇鼑?yán)禁吸煙，氣瓶不應(yīng)接觸到火花、火焰、熱氣及電路。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時(shí)間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率；

反應(yīng)時(shí)間：也稱響應(yīng)時(shí)間，是指從檢漏方法開始實(shí)施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時(shí)所需要的時(shí)間；

消除時(shí)間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時(shí)所需的時(shí)間；

漏孔堵塞現(xiàn)象：指由于真空檢漏作業(yè)操作不當(dāng)導(dǎo)致塵?；蛞后w堵塞漏孔，檢漏時(shí)似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣就會(huì)出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。

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隨著科技的迅猛發(fā)展，氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。各國的設(shè)備廠商相繼推出了多種類烈的氦質(zhì)譜檢漏儀，廣泛應(yīng)用丁航空航天，電力電子，汽車等各個(gè)行業(yè)，綜觀1新氦質(zhì)譜檢漏儀的性能特點(diǎn)發(fā)現(xiàn)，氦質(zhì)譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動(dòng)化、寬程、等先進(jìn)方向發(fā)展，這些特點(diǎn)很好地滿足了當(dāng)前檢漏應(yīng)用的需求，也極大地1推動(dòng)了氮質(zhì)譜檢漏技術(shù)的不斷發(fā)展。試驗(yàn)室供氣現(xiàn)狀目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。

小流量氣體凈化系統(tǒng)

高純供氣系統(tǒng)主要應(yīng)用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發(fā)生器等的高純連續(xù)供氣，應(yīng)用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質(zhì)譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點(diǎn)氣，也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體，更可以為半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供超高純的工藝氣體。但是考慮安全和效率因素，不考慮經(jīng)濟(jì)性因素，集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。

氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過濾器，其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。

氣體配比儀采用質(zhì)量流量計(jì)，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。