磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積. 現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點. 直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢?

真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢？ 1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系. 2.真空鍍膜設(shè)備節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約的目的. 3.真空鍍膜設(shè)備無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當小。

磁控濺射鍍膜技術(shù)介紹

磁控濺射鍍膜技術(shù)介紹 磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種具有結(jié)構(gòu)簡單、電器控制穩(wěn)定性好等優(yōu)點的真空鍍膜機，其工藝技術(shù)的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。 磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下： 陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗→性能測試→包裝、入庫。 以上工藝技術(shù)就是以磁控濺射鍍膜設(shè)備為基礎(chǔ)，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實現(xiàn)材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時，利用NCVM光學膜結(jié)構(gòu)設(shè)計，設(shè)計出各層不同折射率材料，可以調(diào)配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。 磁控濺射鍍膜設(shè)備配合NCVM工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，更好地滿足消費者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應(yīng)的物理化學手段來對金屬材料進行轉(zhuǎn)換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術(shù)含量更高，加工流程也更加復雜。 磁控濺射鍍超硬膜，結(jié)合NCVM光學鍍膜技術(shù)，其鍍層具有優(yōu)異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點，已在電子產(chǎn)品中獲得大量應(yīng)用。隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展，NCVM鍍膜憑借本身優(yōu)越的性能，在真空電鍍技術(shù)領(lǐng)域脫穎而出，成為了電子消費品生產(chǎn)中的一項核心技術(shù)，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環(huán)境污染問題進行解決。