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鍍鎳加工工藝優(yōu)選企業(yè)「在線咨詢」

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發(fā)布時間:2020-07-19 14:37  








鎂合金的耐腐蝕性是碳鋼的8倍,鋁合金的4倍,更是塑料的10倍以上,防腐能力是合金中者。常用的鎂合金具有不可燃性,尤其是使用在汽機車零部件以及建筑材料上,可以避免瞬間的燃燒。鎂在地殼中的儲量居第8位,大部分的鎂原料自海水中提煉,所以它的資源是穩(wěn)定充分的。

材料特性:輕量化的結(jié)構(gòu)、剛性高且耐沖擊、優(yōu)良的耐腐蝕性、良好的熱傳導性和電磁遮蔽、良好的不可燃性、耐熱性較差、易回收。

典型用途: 廣泛應用于航空航天、汽車、電子、移動通訊、冶金等領(lǐng)域。




對比

滲碳

氮化

目的

提高工件表面硬度、耐磨性及疲勞強度,同時保持心部良好的韌性。提高工件表面硬度、耐磨性及疲勞強度,提高耐蝕性。

用材

含0.1-0.25%C的低碳鋼。碳高則心部韌性降低。為含Cr、Mo、Al、Ti、V的中碳鋼。常用方法

氣體滲碳法、固體滲碳法、真空滲碳法

氣體氮化法、離子氮化法

溫度

900~950℃

500~570℃

表面厚度

一般為0.5~2mm不超過0.6~0.7mm用途

廣泛用于飛機﹑汽車和拖拉機等的機械零件﹐如齒輪﹑軸﹑凸輪軸等。用于耐磨性、精度要求高的零件及耐熱、耐磨及耐蝕件。如儀表的小軸、輕載齒輪及重要的曲軸等。




物理氣相沉積(PVD)

物理氣相沉積是指在真空條件下,用物理的方法,使材料汽化成原子、分子或電離成離子,并通過氣相過程,在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛;工藝簡單、省材料、無污染;獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓電、滑潤、超導等薄膜。


氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì),通過物理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過程的原理不同,氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大類。









沉積膜層主要指依靠電能、動能或熱能,將成膜原子、分子或離子輸送至基體表面,進而發(fā)生凝聚形成的膜層。一般而言,形成的涂層化學成分多樣,可以根據(jù)需求和應用不同選擇無機或有機成分甚至金屬涂層。由于加工方法的多樣性和差異性,形成的沉積膜層與基體的結(jié)合強度變化也很大。目前形成沉積膜層的方法主要包括噴涂(spraying)、氣相沉積(vapor deition)、溶膠-凝膠法(sol-gel)以及仿生沉積(biomimetic)等。




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