實(shí)驗(yàn)室供氣系統(tǒng)氣體管路

實(shí)驗(yàn)室供氣管路系統(tǒng)工程主要是為試實(shí)驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的標(biāo)準(zhǔn)氣體，保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求。按照國標(biāo)要求，將所用全部氣體存放于儲氣間，并實(shí)現(xiàn)集中輸送，組成中央供氣系統(tǒng)。系統(tǒng)采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時能夠?qū)崿F(xiàn)分段控制和在多拖一和多拖多時能夠?qū)崿F(xiàn)切換控制；并能夠保證標(biāo)準(zhǔn)氣體流量、壓力穩(wěn)定和量值傳遞不發(fā)生變化，滿足分析檢測設(shè)備對使用氣體的技術(shù)要求。

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氣體配比器對焊接起到什么作用

氣體配比器的產(chǎn)生來自于人們對混合氣體的需求，人們在焊接實(shí)踐中逐漸發(fā)現(xiàn)在單一純凈氣體中加入適當(dāng)?shù)乃悮怏w在焊縫成型、焊接速度以及減輕飛濺上都有很明顯的改善作用，從上世紀(jì)四五十年代，這種混合氣體焊的工藝流行開來，便產(chǎn)生了氣體配比器此類專門調(diào)配混合氣體的設(shè)備。不應(yīng)在封閉空間內(nèi)用惰性氣體（如氮?dú)?、二氧化碳等）進(jìn)行實(shí)驗(yàn)分析、燒焊、低溫冷藏、吹除等等。

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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的特點(diǎn)

1、特點(diǎn)：試驗(yàn)室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高，為試驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的氣體。

2、經(jīng)濟(jì)性：建一個集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗(yàn)室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)針對過去使用中存在的問題，現(xiàn)代試驗(yàn)室對載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革，即“集中供氣系統(tǒng)”，即將使用氣體（以下簡稱載氣）集中貯存，然后通過壓差的原理將氣體經(jīng)過金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點(diǎn)。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因?yàn)槭褂猛粴怏w的所有使用點(diǎn)來自于同一個氣源。此種供應(yīng)方式終會減少運(yùn)輸費(fèi)用，減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量，以及良好的氣瓶管理。

3、使用率：集中管道供應(yīng)系統(tǒng)可以將氣體出口放置在使用點(diǎn)處，這樣的話可以更合理的設(shè)計工作場所。

4、安全性：保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。

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高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗(yàn)室相對獨(dú)立的房間，如果與試驗(yàn)室在同一大樓內(nèi)，則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨(dú)立的房間，這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離，即使有害氣體有泄漏，也不會發(fā)生直接傷害。