棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面?；瘜W拋光后處理鋼鐵零件化學拋光，可以作為防護裝飾性電鍍的前處理工序，也可以作為化學成膜如磷化發(fā)蘭的前處理工序。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗。

化學拋光是在不供電情況下產生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質上沒有太大差別。不銹鋼拋光級別可以達到國際A0標準，下面就跟大家介紹一下我們是怎么達到鏡面效果的?；瘜W拋光效果一般要比電解拋光效果差，在化學拋光中，由于材料的質量不均勻，會引起局部電位高低不一，產生局部陰陽極區(qū)，形成局部短路的微電池，使陽極發(fā)生局部溶解。而在電解拋光中由于外加電位的作用可以完全消除這種局部的陰極區(qū)，進行全l面的電解，因此效果更好。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗。

區(qū)別于傳統(tǒng)的純機械或純化學的拋光方法，CMP通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現(xiàn)高質量的表面拋光。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。