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小型自動磁控濺射儀
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)磁控濺射產品供應商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?
1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa;
4. 系統(tǒng)停泵關機12小時后真空度:≤5Pa
5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結構,尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結構,弧焊接,表面進行電化學拋光,內含防污內襯,可內烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉基片臺 1套,樣品臺可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉功能,旋轉0—30轉/分連續(xù)可調?;訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調,由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;
10. 抽氣機組及閥門、管道 1套,包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國普發(fā)Hipace700分子泵);在光學領域中用途巨大,比如說光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。1臺機械泵(4L/S) ,1臺DN40氣動截止閥,機械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動閘板閥1臺(用于復合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺,DN40旁抽氣閥1臺,壓差式充氣閥1臺;管道采用不銹鋼三通及波紋管,
11. 安裝機臺架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動。
雙靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。同時設備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質量和牢固度。
設備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(2個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。
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線列式磁控生產線
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產、銷售磁控濺射產品,我們?yōu)槟治鲈摦a品的以下信息。
采用先進的in-line產線結構,Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術,并配以全自動控制系統(tǒng)、先進的真空系統(tǒng),可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質薄膜、金屬或合金薄膜,并可連續(xù)濺鍍多種不同材質的薄膜構成復合多膜層結構,適合大規(guī)模光學、電學薄膜的生產,做到一機多用具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。
本產品可廣泛應用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產業(yè)領域。
自動磁控濺射系統(tǒng)有哪些特點?
自動磁控濺射系統(tǒng)產品特點:
不銹鋼腔體
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下的載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
完全的安全聯(lián)鎖功能
預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片