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鍍鈦技術(shù)可增強模具脫模性,減少產(chǎn)品與模具粘結(jié),避免在生產(chǎn)過程中因使用脫模劑而污染塑件,保證紅酒杯塑件在脫模時不易拉傷,有效的提高產(chǎn)品質(zhì)量。
鍍鈦工藝還可增強模具表面硬度,減少原材料在高壓沖刷下對高光面造成的損傷,從而延長模具壽命。
機(jī)械拋光技術(shù)對拋光工具要求甚高,需具備高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等輔助品。其缺點是:
1)工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復(fù)雜,流程更為繁雜,生產(chǎn)難度高;
2)生產(chǎn)良率低,大約為65~70%(傳統(tǒng)單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85~90%;
3)價格會比傳統(tǒng)單色PVD的高50~60%;
4)因工藝和流程的影響,雙色PVD生產(chǎn)限制較多,受產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的影響較大,而傳統(tǒng)單色PVD則幾乎不受限制
現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、輔助陽極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或濺射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表面的電弧加以有效地控制,使材料的離化率更高,薄膜性能更加優(yōu)異。
磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點,因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實現(xiàn)濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場方向垂直的磁場,處于正交電場區(qū)E和磁場B中的電子的運動方程,