湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務。

其基本爐型有罩式、井式、臥式，但是通常以罩式為常見。轟擊表面的一部分氮奪取電子后直接滲人工件表面，在工件表面上形成含氮很高的呈蒸發(fā)狀態(tài)的Fe，并不斷向工件內(nèi)部擴散，從而達到滲氮的目的。

雙極性脈沖中頻靶電源一般帶孿生靶或雙靶運行。兩個靶的工作電壓極性相反同時又不斷互換極性，電壓極性為負時的磁控靶發(fā)生濺射，極性為正時的那個磁控靶不產(chǎn)生濺射。??由于陰陽極間電場正負極性來回變化，使電子路徑延長，與工作氣體碰撞次數(shù)增加，故單個磁控靶承載同樣功率(其它真空環(huán)境條件相同)時，選用雙極脈沖中頻靶電源比用純直流靶電源和脈沖直流中頻靶電源時，工作氣體的離化幾率和靶材的沉積速率均要高一些。??磁控靶陰極電壓極性為負時，其單脈沖氣體放電應與直流氣體放電伏-安特性曲線異常輝光放電段及之前段的變化規(guī)律(趨勢)相符。??一般來說，射頻輝光放電與直流及中頻交流脈沖輝光放電相比，可以在低一個數(shù)量級的氣體壓強狀態(tài)下進行(例如，1。??

1933年德國Von Engel首1次報道了研究結(jié)果 ，利用冷卻的裸電極在大氣壓氫氣和空氣中實現(xiàn)了輝光放電，但它很容易過渡到電弧，并且必須在低氣壓下點燃，即離不開真空系統(tǒng)。1988年，Kanazawa等人報道了在大氣壓下使用氦氣獲得了穩(wěn)定的APGD的研究成果，并通過實驗總結(jié)出了產(chǎn)生APGD要滿足的三個條件：（1）激勵源頻率需在1kHz以上；（2）需要雙介質(zhì)DBD；離子滲碳是將工件裝入溫度在900℃以上的真空爐內(nèi)，在碳氫化合物的減壓氣氛中加熱，同時在工件(陰極)和陽極之間施加高壓直流電，產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象，使活化的碳被離子化，在工件附近加速并轟擊工件表面進行滲碳的工藝。（3）必須使用氦氣氣體。此后，日本的Okazaki、法國的Massines和美國的Roth研究小組分別采用DBD的方法，用不同頻率的電源和介質(zhì)，在一些氣體和氣體混合物中宣稱實現(xiàn)了大氣壓下“APGD”。