?真空鍍膜五金真空鍍膜加工

真空鍍膜加工技術(shù)的一般術(shù)語及工藝

2.1.8激光束蒸發(fā)：通過激光束加熱蒸發(fā)材料的蒸發(fā)。

   2.1.9間接加熱的蒸發(fā)：在加熱裝置(例如小舟形蒸發(fā)器,坩堝,燈絲,加熱板,加熱棒,螺旋線圈等)中使蒸發(fā)材料獲得蒸發(fā)所須的熱量并通過熱傳導或熱輻射方式傳遞給蒸發(fā)材料的蒸發(fā)。

   2.1.10閃蒸：將很少量的蒸發(fā)材料間斷地做瞬時的蒸發(fā)。

   2.2真空濺射：在真空中，惰性氣體離子從靶表面上轟擊出原子（分子）或原子團的過程。

   2.2.1反應(yīng)性真空濺射：通過與氣體的反應(yīng)獲得理想化學成分的膜層材料的真空濺射。

 2.2.2偏壓濺射biassputtering：在濺射過程中，將偏壓施加于基片以及膜層的濺射。

   2.2.3直流二級濺射directcurrenodesputtering：通過二個電極間的直流電壓，使氣體自持放電并把靶作為陰極的濺射。

   2.2.4非對稱流濺射asymmtricalternatecurrentsputtering：通過二個電極間的非對稱流電壓，使氣體自持放電并把靶作為吸收較大正離子流的電極。

   2.2.5高頻二極濺射highfrequencydiodesputtering：通過二個電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的濺射。

   2.2.6熱陰極直流濺射（三極型濺射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電所產(chǎn)生的離子，由在陽極和陰極（靶）之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。

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