鍍膜機(jī)能鍍出不同顏色的不銹鋼產(chǎn)品嗎

不同的顏色，用不同的工藝和不同的耙材，比如常見的槍色，我們一般選擇用鈦耙或者鉻耙，鈦耙做出來的顏色老，鉻耙做出來的顏色嫩，黑色的我們一般用鈦柱耙或者鉻柱耙。

如果膜層出來掉色的現(xiàn)象，個分析工藝是否正確，第二個分析前處理清洗是否徹底，純水值是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求，第三個分析真空爐是否有泄漏。原因大概就這三個。如果顏色出現(xiàn)變色，分析掛具的產(chǎn)品是否在有效的濺射范圍內(nèi)，第二分析工藝是否應(yīng)該調(diào)整。

退鍍這一塊也是根據(jù)不同的工藝，偏壓的大小，不同的耙材所鍍的顏色來分析應(yīng)該如何來正確的退鍍，用鈦耙鍍出來的顏色。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應(yīng)可簡單地通過單層增透膜例子說明。當(dāng)光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側(cè)的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高？ 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過程中，經(jīng)過加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時候，會產(chǎn)生電子發(fā)射，而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開始向陽極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū)，和中性氣體原子進(jìn)行碰撞，產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大，隨著氣壓的增大而減小，特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因?yàn)槠潆x化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi)，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。