金屬蝕刻標(biāo)牌

通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；3、經(jīng)反復(fù)實(shí)驗(yàn)噴射壓力在1-2Kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉，使蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高，由于該蝕刻機(jī)液體可循環(huán)再生使用，此項(xiàng)可大大降低蝕刻成本，也可達(dá)到環(huán)保加工要求。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻標(biāo)牌

銅牌、鋁牌、不銹鋼牌、標(biāo)牌、銘牌、商標(biāo)、標(biāo)簽、腐蝕、蝕刻、絲印、燙金、精密蝕刻、金屬標(biāo)牌、PVC標(biāo)牌、酒店標(biāo)牌、牌、不銹鋼標(biāo)牌、不干膠商標(biāo)、滴膠標(biāo)牌、滴塑標(biāo)牌、氧化標(biāo)牌、鐵標(biāo)牌、機(jī)械標(biāo)牌、電器標(biāo)牌、機(jī)器標(biāo)牌、醫(yī)院標(biāo)牌、學(xué)校標(biāo)牌、超市標(biāo)牌、家俱標(biāo)牌、櫥柜標(biāo)牌、沙發(fā)標(biāo)牌、燃具標(biāo)牌、防盜門標(biāo)牌、音響標(biāo)牌、電視機(jī)標(biāo)牌、電腦標(biāo)牌、電話標(biāo)牌、空調(diào)標(biāo)牌、交通標(biāo)牌、導(dǎo)向牌、指示牌、樓層牌、大廈標(biāo)牌、服裝標(biāo)牌、紀(jì)念章、獎(jiǎng)牌、手機(jī)標(biāo)牌、mp3標(biāo)牌、DVD標(biāo)牌授權(quán)牌、經(jīng)銷牌、等。蝕刻設(shè)備的維護(hù)維護(hù)蝕刻設(shè)備的最關(guān)鍵因素就是要保證噴嘴的高清潔度及無阻塞物,使噴嘴能暢順地噴射。

PCB 外層電路的蝕刻工藝

在印制電路加工中﹐氨性蝕刻是一個(gè)較為精細(xì)和覆雜的化學(xué)反應(yīng)過程, 卻又是一項(xiàng)易 于進(jìn)行的工作。 只要工藝上達(dá)至調(diào)通﹐就可以進(jìn)行連續(xù)性的生產(chǎn), 但關(guān)鍵是開機(jī)以后就必 需保持連續(xù)的工作狀態(tài)﹐不適宜斷斷續(xù)續(xù)地生產(chǎn)。 蝕刻工藝對(duì)設(shè)備狀態(tài)的依賴性極大, 故 必需時(shí)刻使設(shè)備保持在良好的狀態(tài)。蝕刻標(biāo)牌是指金屬標(biāo)牌的圖片與金屬表面不在同一個(gè)表面，并以蝕刻的方式而制成。 目前﹐無論使用何種蝕刻液﹐都必須使用高壓噴淋﹐ 而為了獲得較整齊的側(cè)邊線條和高質(zhì)量的蝕刻效果﹐對(duì)噴嘴的結(jié)構(gòu)和噴淋方式的選擇都必 須更為嚴(yán)格。