六氟化硫制備：

以長(zhǎng)約300mm直徑25mm的鎳管為反應(yīng)器，將盛有硫粉的鎳舟置于其中，反應(yīng)管與一石英阱連接，石英阱以液態(tài)氧冷卻。裝置的末端與一裝有新脫水的KF的鐵制干燥管相連，以隔離空氣中的濕氣。6026、飽和蒸氣壓（kPa）：2450（25℃）7、臨界溫度（℃）：45。硫在氟氣流中燃燒，生成的產(chǎn)物凝聚在冷阱中。隨后進(jìn)行純化，使產(chǎn)物氣化并通過(guò)10%的KOH熱溶液（不用NaOH）洗滌除去其中的雜質(zhì)（HF，SF2，SF4，SOF2，S2F10）。然后用P4O10干燥產(chǎn)物氣體，并在室溫下通過(guò)活性炭除去S2F10。

高純六氟化硫的應(yīng)用

 六氟化硫的使用可以增加設(shè)備運(yùn)行的安全性、縮小設(shè)備體積、延長(zhǎng)設(shè)備壽命。近幾年，國(guó)家大力發(fā)展基礎(chǔ)電力行業(yè)，給六氟化硫廠家?guī)?lái)了很大的市場(chǎng)機(jī)遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國(guó)內(nèi)需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導(dǎo)體工業(yè)中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來(lái)，各公司以廉價(jià)的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術(shù)正被廣泛研究。

 該技術(shù)在大幅降低液晶產(chǎn)品加工中占相當(dāng)比例的CVD氣體成本的同時(shí)，還顯示出了極i佳的環(huán)保前景，近年來(lái)用量有明顯的提高。

 據(jù)權(quán)i威機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2010年我國(guó)將成為僅次于美國(guó)的世界第二大集成電路市場(chǎng)，總需求量約為500億美元。目前國(guó)內(nèi)使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線約有50條左右預(yù)計(jì)。2016年將達(dá)到700噸左右，

 國(guó)內(nèi)使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線有近50條，在未來(lái)的五年預(yù)計(jì)將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫?yàn)?00噸左右。例如：SF6氣體分解物與水的繼發(fā)性反應(yīng)生成氫i氟酸、二氧化硫、硫酸等（3）電器設(shè)備內(nèi)的SF6氣體及分解物與電極（Cu－W合金）及金屬材料（AL、Cu）反應(yīng)而生成某些有毒產(chǎn)物。而國(guó)內(nèi)高純六氟化硫產(chǎn)品遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足市場(chǎng)需求，半導(dǎo)體廠家所用高純產(chǎn)品大部分依賴進(jìn)口，這給高純六氟化企業(yè)提供更多的發(fā)展機(jī)遇。

    SF6氣體的分子具有很好的電負(fù)性，能夠捕i捉自由電子形成負(fù)離子，因此SF6氣體的滅弧性能是空氣的100倍，大型電力設(shè)備中大多使用SF6斷路器而不是空氣開關(guān)。純品的六氟化硫氣體滅弧后能夠迅速恢復(fù)還原，所以可以在設(shè)備中反復(fù)使用，非常適合需要頻繁操作的場(chǎng)所。SF6氣體的分子具有很好的電負(fù)性，能夠捕i捉自由電子形成負(fù)離子，因此SF6氣體的滅弧性能是空氣的100倍，大型電力設(shè)備中大多使用SF6斷路器而不是空氣開關(guān)。但是如果SF6氣體質(zhì)量不合格，雜質(zhì)尤其是水分超標(biāo)，出現(xiàn)六氟化硫微水過(guò)多的問(wèn)題，在高壓電弧的作用下，就會(huì)生成亞硫酸、等有毒腐蝕性產(chǎn)物。六氟化硫氣體水分的危害非常大！