真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點

清洗過程簡化：現(xiàn)有真空鍍膜機PVD涂層鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對工件進行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個鍍膜過程。清洗效果良好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

可鍍材料廣泛：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經(jīng)過加熱，抽真空和濺射等過程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產(chǎn)生。玻璃加熱過程中再污染是加熱室或濺射室不干凈，而對玻璃再污染，這些污染源主要來源于擴散泵返油、加熱室或濺射室內(nèi)臟、靶玻璃材濺射產(chǎn)生靶灰，殘余氣體壓強高等諸多方面。因為一般的固體物質(zhì)，每單位表面積上的分子數(shù)大約為10個左右，在常Pa的壓強下，每秒鐘撞表面的分子數(shù)大體上相當(dāng)于覆蓋物質(zhì)積的分子數(shù)。在殘余氣體壓強為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進行鍍膜時，則蒸發(fā)的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過程中在充入氣時壓強為10～10時所形成膜的速度和蒸發(fā)條件下基本相同。

小型實驗真空鍍膜機

小型實驗真空鍍膜機適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品，玻璃等經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產(chǎn)品檔次，外觀更顯華貴作用。采用電阻熱蒸發(fā)方式進行鍍膜、功能齊全，適應(yīng)性強的特點?？梢圆捎秒娮枵舭l(fā)鍍，電弧鍍或磁控濺射鍍。

小型實驗真空鍍膜機適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品，玻璃等經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產(chǎn)品檔次，外觀更顯華貴作用。實驗用真空鍍膜機具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、易維護的特點?？蓪崿F(xiàn)全自動控制或手動控制、操作簡單可靠，可自動完成各種鍍膜工藝參數(shù)。可以采用電阻蒸發(fā)鍍，電弧鍍或磁控濺射鍍。不管是哪種鍍膜方式均可用于科研、教學(xué)、電子元件、及涂料生產(chǎn)等行業(yè)的表面表面鍍膜，可電鍍鋁、錫、銅、鉻等金屬。