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金屬真空鍍膜廠擇優(yōu)推薦

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發(fā)布時間:2020-07-30 02:09  






真空鍍膜加工鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因?

真空蒸發(fā)鍍膜機是在真空室中利用電阻加熱法,將緊貼在電阻絲上的金屬絲熔融汽化,汽化了的金屬分子沉積于基片上,而獲得光滑反射率的膜層,車燈鍍膜機達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。獲得價廉物美的塑料件表面裝飾的理想設(shè)備,任意底色的塑料經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等,具有提高產(chǎn)品檔次、外觀更顯華貴作用。廣泛應(yīng)用于塑料(ABS、APS、PU、PS、PP、PC和PVC)、尼龍、陶瓷、樹脂、玻璃等材料的玩具、飾物、工藝品、手機殼、電子產(chǎn)品、燈飾配件、化妝包裝等行業(yè)。




真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位,是一個對數(shù)值,通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測量。 光密度是入射光與透射光比值的對數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對數(shù)。

計算公式為: OD=lg(入射光/透射光)或OD=lg(1/透光率) 通常鍍鋁膜的光密度值為l~3(即光線透過率為0.10/0~10%),數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對應(yīng)的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600




PVD鍍膜金屬真空鍍膜廠

真空鍍膜表面處理工藝后鋁型材的特征

磨砂面料型材:磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環(huán)境、條件下會形成光的干擾的缺點,它的表面如錦緞一樣細(xì)膩柔和,很受市場的青睞,但現(xiàn)有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻,并能看到模紋的不足。

PVD鍍膜技術(shù)的原理?

?PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù),其具體原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。




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