微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內(nèi)部致密的陶瓷層。 膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線(xiàn)

2、微弧氧化技術(shù)絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據(jù)基材熔點(diǎn)溫度 有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)工藝

微弧氧化的工藝參數(shù)

       微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓，一般說(shuō)終電壓決定微弧氧化膜的厚度，它是不斷升高而達(dá)到的，不能一次性加至終電壓。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的，也與槽液類(lèi)型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對(duì)于氧化膜的性能至關(guān)重要。特別對(duì)于氧化膜要求很厚的樣品可以分幾次氧化，而陽(yáng)極氧化一旦中斷就必須重新開(kāi)始。微弧氧化過(guò)程中有一個(gè)很大的優(yōu)點(diǎn)就是外加電源突然中斷時(shí)可以直接繼續(xù)進(jìn)行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線(xiàn)

微弧氧化為什么要進(jìn)行預(yù)處理

      鋁、鎂、鐵等輕金屬進(jìn)行微弧氧化處理，需要進(jìn)行預(yù)處理，是因?yàn)殚L(zhǎng)期露在空氣中表面易發(fā)生氧化，容易形成一層鈍化膜，同時(shí)，鋁、鎂、鈦等輕金屬容易吸附一些雜志，為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能，所以給鋁、鎂、鈦等輕金屬進(jìn)行微弧氧化前進(jìn)行預(yù)處理是很有必要的，是為了保證微弧氧化的效果。溶液溫度對(duì)鋁型材微弧氧化的效果影響1、溫度低時(shí)，氧化工業(yè)鋁型材的生長(zhǎng)速度較快，工業(yè)鋁型材致密，性能較佳。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線(xiàn)、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化技術(shù)原理、微弧氧化工藝

微弧氧化電源基本結(jié)構(gòu)

       從微弧氧化電源技術(shù)要求來(lái)看，要實(shí)現(xiàn)脈沖電源波形變換多、參數(shù)調(diào)節(jié)范圍寬，必定使電路復(fù)雜化、造價(jià)提高、可靠性降低。所以適用、可靠_且經(jīng)濟(jì)性的電源結(jié)構(gòu)是設(shè)計(jì)方案的基本出發(fā)點(diǎn)。現(xiàn)在國(guó)內(nèi)的大部分脈沖電源都是采用兩個(gè)相互獨(dú)立的電源進(jìn)行疊加而組成的，在兩個(gè)電源之間加上切換裝置、控制正負(fù)脈沖電流的截止和導(dǎo)通。但是，這樣不但使電源結(jié)構(gòu)復(fù)雜化，同時(shí)也增加了控制電路的負(fù)擔(dān)，使電源成本增加。 在考慮簡(jiǎn)化電源結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，采用復(fù)合功率轉(zhuǎn)換電路的形式，即由前級(jí)向后級(jí)供電，由后級(jí)控制電流的設(shè)計(jì)方案。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強(qiáng)，絕緣性好，膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng)，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。電源通過(guò)設(shè)定不同的占空比進(jìn)行直流調(diào)壓，從而得到預(yù)定的輸出電壓，然后，利用逆變電路實(shí)現(xiàn)波形控制。