一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理

X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線，它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息，通過(guò)對(duì)X射線熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識(shí)，對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來(lái)說(shuō)，都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu)，其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛，成為自由電子，這時(shí)原子被激發(fā)了，處于激發(fā)態(tài)。002um~100um左右，能測(cè)試5層以上膜厚，并且可以測(cè)量合金鍍層，也可分析鍍層元素和含量比。此時(shí)，其他的外層電子便會(huì)填補(bǔ)這一空位，即所謂的躍遷，同時(shí)以發(fā)出X射線的形式放出能量。

由于每一種元素的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)都是特定的，它被激發(fā)后躍遷時(shí)放出的X射線的能量也是特定的，稱之為特征X射線。通過(guò)測(cè)定特征X射線的能量，便可以確定相應(yīng)元素的存在，而特征X射線的強(qiáng)弱（或者說(shuō)X射線光子的多少）則代表該元素的含量。

一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線熒光光譜儀是一種可以對(duì)多元素進(jìn)行快速同時(shí)測(cè)定的儀器。試樣受X射線照射后，其中各元素原子的內(nèi)殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線熒光。每一種元素都有其特定波長(zhǎng)的特征X射線。如果合金鍍層成分穩(wěn)定，選擇合適的對(duì)比分析樣品，就可以準(zhǔn)確的分析出合金鍍層的厚度。能散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線具有不同能量的特點(diǎn)，由探測(cè)器本身的能量分辨本領(lǐng)來(lái)分辨探測(cè)到的X射線。

上照式：通常都有Z軸可移動(dòng)，所以可對(duì)形狀復(fù)雜的樣品（如凹面內(nèi)）做定位并且測(cè)試，一般可定位到2mm以內(nèi)的深度，如Thick800A，另外有些廠商在此基礎(chǔ)上配備了可變焦裝置，搭配先進(jìn)的算法，可定位到80mm以內(nèi)的深度，如XDL237

下照式：通常都沒(méi)有Z軸可移動(dòng)，所以不可對(duì)凹面等無(wú)法直接接觸測(cè)試窗口的位置進(jìn)行定位并測(cè)試，但操作簡(jiǎn)單，造價(jià)相對(duì)低；部分廠商或款式儀器搭載變焦裝置也可測(cè)試復(fù)雜形狀樣品，同時(shí)也抬高了價(jià)格

江蘇一六儀器   X射線熒光光譜儀XTU/X-RAY系列 

技術(shù)參數(shù)

X射線裝置：W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管

準(zhǔn)直器φ 0.05 mm  ；φ 0.1 mm；φ 0.2 mm；φ 0.5 mm； 準(zhǔn)直器任意選擇或者任意切換

近測(cè)距光斑擴(kuò)散度：9%

測(cè)量距離：具有距離補(bǔ)償功能，可改變測(cè)量距離，能測(cè)量凹凸異型樣品，變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)

樣品觀察：1/2.5彩色CCD，變焦功能對(duì)焦方式高敏感鏡頭，手動(dòng)對(duì)焦

放大倍數(shù)：光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍

隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片：十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um 

其它附件：聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱