鍍膜常用在相機(jī)鏡頭、近視、老花鏡等矯正眼鏡上使用。鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影；不同顏色的鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時(shí)間。眼鏡鍍膜常用藥品：二氧化鋯（ZrO?）、二氧化硅（SiO?）、ITO（增加鏡片導(dǎo)電抗紫外線）、HT-100（防水膜，防止老化和氧化）。

鍍膜原理：高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

靶材輸入電流及濺射時(shí)間可以控制，容易得到高精度的膜厚。較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排?；迮c膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會(huì)繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜，同時(shí)此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。靶材的壽命長(zhǎng)，可長(zhǎng)時(shí)間自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀，配合機(jī)臺(tái)的特殊設(shè)計(jì)做更好的控制及比較有效率的生產(chǎn)。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)運(yùn)作就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來(lái)進(jìn)行控制，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致，這樣就能控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問題的。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均的因素哪些？專業(yè)從事這方面工作的朋友其實(shí)還是比較的了解的，它主要可以分為以下幾個(gè)因素就是：真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、亞氣。

磁場(chǎng)是正交運(yùn)作的，但你要將磁場(chǎng)強(qiáng)度做到一定均勻是不可能的，一般磁場(chǎng)強(qiáng)的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會(huì)造成膜層厚度的不一致，不過(guò)在生產(chǎn)過(guò)程中，由于磁場(chǎng)的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的，為什么呢？