控制好系統(tǒng)張力，開啟冷卻系統(tǒng)，避免薄膜受熱出現(xiàn)拉伸變形；精準控制卷取速度、送鋁速度及蒸發(fā)舟加熱電流，以獲得產(chǎn)品要求的鋁層厚度；可預(yù)先在薄膜上涂布一定干量的底膠，并充分干燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可提高鋁層與薄膜的結(jié)合力。而后在鋁膜上涂布一定量的保護樹脂，防止鋁層氧化變質(zhì)。經(jīng)此工藝形成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易變質(zhì)。

磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來進行控制，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就能控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

真空電鍍設(shè)備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，真空電鍍設(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

真空電鍍設(shè)備具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。真空電鍍設(shè)備成膜性能好，真空電鍍設(shè)備涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。真空電鍍設(shè)備與面涂層有良好的相溶性。真空電鍍設(shè)備由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

真空電鍍設(shè)備施涂性能良好。真空電鍍設(shè)備流平性能良好，有適當?shù)酿ざ?、固化時間短。真空電鍍設(shè)備與鍍膜層要有良好的接觸性能;真空電鍍設(shè)備與底涂層要有一定的相溶性;真空電鍍設(shè)備成膜性能與施涂性能優(yōu)良;真空電鍍設(shè)備具有適當?shù)臋C械強度;真空電鍍設(shè)備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍設(shè)備腐蝕性能好。抗老化性能強。