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不銹鋼等離子拋光工藝歡迎咨詢「棫楦不銹鋼表面處理」

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發(fā)布時間:2021-09-26 08:32  







等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi),因此等離子納米拋光處理可以化學活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面在化學物質(zhì)。




實際運用

以一般的手機外殼為例,基本上所有的手機廠商都對不銹鋼手機外殼的要求為表面無劃傷,無紋路,無白點的鏡面效果。拋光工藝一般從沖壓出完全成型產(chǎn)品開始,后續(xù)工序一般有鐳射,電鍍,噴油等。



等離子拋光為客戶減輕環(huán)保壓力。領(lǐng)升自動化所使用的拋光溶液非常環(huán)保,其廢液可以直接 排放而不會造成污染,也可以稍作處理回收利用。降低客戶生產(chǎn)成本。




等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài),是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,使氣態(tài)粒子部分電離,這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。

其拋光技術(shù)不使用對環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學物品,但它的拋光效果卻能夠達到傳統(tǒng)方法很難達到的,拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的,生產(chǎn)成本遠遠低于傳統(tǒng)拋光成本。

等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.









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