一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1～104的原子層或分子層。在此方向上，薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的，其他的兩維方向具有宏觀大小。所以，表示薄膜的形狀，一定要用宏觀方法，即采用長(zhǎng)、寬、厚的方法。因此，膜厚既是一個(gè)宏觀概念，又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的，而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚：dT是接近于直觀形式的膜厚，通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子（分子）有關(guān)，并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響；

質(zhì)量膜厚：dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少，通常以μg/cm2為單位，它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響（如缺陷、、變形等）；

物性膜厚：dP在實(shí)際使用上較有用，而且比較容易測(cè)量，它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系，主要取決于薄膜的性質(zhì)（如電阻率、透射率等）。

江蘇一六儀器    X熒光光譜測(cè)厚儀

下照式設(shè)計(jì)：可以快速方便地定位對(duì)焦樣品。

  無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-90mm。

  微聚焦射線裝置：可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品，可測(cè)試各微小的部件。

  接收：即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品，幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性。

  精密微型滑軌：快速精準(zhǔn)定位樣品。

  EFP先進(jìn)算法軟件：多層多元素，甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。

      江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作，研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

      X射線熒光測(cè)厚儀操作注意事項(xiàng)：

測(cè)厚儀操作時(shí)候需要注意的：

技術(shù)指標(biāo)：

1 分析元素范圍：Cl（17）-U（92）

2 同時(shí)可分析多達(dá)5層鍍層以上

3 分析厚度檢出限高達(dá)0.01μm

4 多次測(cè)量重復(fù)性高可達(dá)0.01μm

5測(cè)量時(shí)間：5s-300s

6 計(jì)數(shù)率：0-8000cps

測(cè)厚儀操作流程

打開(kāi)儀器開(kāi)關(guān)----在電腦上開(kāi)啟軟件-------開(kāi)高壓鑰匙-------聯(lián)機(jī)------預(yù)熱-----峰位校正------新建程式------選擇相應(yīng)的程式-----測(cè)試樣品----出報(bào)告