CT系列鍍膜機

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機系我司非標定制產(chǎn)品，根據(jù)您的要求單獨設(shè)計，滿足您的特殊需要。

特點：1、按需開發(fā)，量身定制。

2、整機采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統(tǒng)

5、可集成多種自動化應(yīng)用

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。在信息存儲領(lǐng)域中薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。有的真空泵出口壓強低于大氣壓，需要前級泵，故都需要把泵組合起來使用。

以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容，希望對您有所幫助！

蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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真空鍍膜設(shè)備的日常維護

真空鍍膜設(shè)備的運行狀況直接影響生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)進程等，為了使設(shè)備的運行狀況良好，必須建立和完善設(shè)備的維護與維修制度、維護內(nèi)容、維修標準等。

設(shè)備的維護要有日常維護和定期維護

1,日常維護就是在當天生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)設(shè)備有不良跡象，就馬上解決。發(fā)現(xiàn)機械泵的油少了就要添加，不要認為這油是定期更換的，等到了時間再維護，到時候可能泵的轉(zhuǎn)子就會磨損嚴重了。再比如工件轉(zhuǎn)架的軸承有些卡，就要更換軸承，而等到它徹底的壞了再換，問題可就大了，可能引起轉(zhuǎn)架電機燒毀等現(xiàn)象。擴散泵的油蒸汽壓是決定泵的極限真空的重要因素，因此盡量選用飽和蒸汽壓低的泵油，其化學特性要好。

2定期維護，有人會問有了日常維護還有必要定期維護嗎?在集成電路制造中晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。其實每一種設(shè)備都有自己的使用壽命，比如擴散泵用的的硅油，使用壽命為兩年左右，我就規(guī)定1年半把它換掉，這樣作是不是浪費，我覺得不浪費，從設(shè)備服務(wù)于生產(chǎn)來說是值得的，老板不希望看到的是機器在生產(chǎn)階段出現(xiàn)問題。只要你把日常維護和定期維護做好了，在延長設(shè)備壽命的同時，生產(chǎn)過程中出現(xiàn)故障的幾率也大大降低。生產(chǎn)效率也提高了。

3,設(shè)備保養(yǎng)和維修1重要的是講究“細心”，每一個人都力求做到“我辦事，你放心”，也就是說我做的事情不需要別人和自己再有懷疑!3,設(shè)備保養(yǎng)和維修最1重要的是講究“細心”，每一個人都力求做到“我辦事，你放心”，也就是說我做的事情不需要別人和自己再有懷疑。做好這一點可少走好多彎路，其次是要善于分析現(xiàn)象，不能盲目的拆卸。說到這里，很多人都遇到過真空方面的漏氣問題，真空部分出現(xiàn)了問題很麻煩，再加上我們公司沒有檢漏儀，這就要分階段來找。

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