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半導(dǎo)體光刻膠廠家品質(zhì)售后無憂“本信息長期有效”

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發(fā)布時間:2020-12-15 07:13  






光刻膠分類情況是怎樣

1、光聚合型。2、光分解型,采用含有疊氮醌類化合物的材料,經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由油溶性變?yōu)樗苄?,可以制成正性膠。

3、光交聯(lián)型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開,并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,這是一種典型的負(fù)性光刻膠。柯達(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。

上述內(nèi)容主要所描述的就是小編對于光刻膠是什么材料?光刻膠分類情況是怎樣的具體介紹,不同情況下面,大家使用的一些材料上存在著很大的差距,所以在這以前,有些方面情況上到底是怎樣,這些是都得根據(jù)細(xì)節(jié)狀況來的,對于物品調(diào)查辦理前,一定也是不可以盲目做下定論,否則也容易為自己以后操作出現(xiàn)影響。

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光刻膠應(yīng)用

光刻膠是一種具有光化學(xué)敏感性的功能性化學(xué)材料,是由光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,其中,樹脂約占50%,單體約占35%。它能通過光化學(xué)反應(yīng)改變自身在顯影液中的溶解性,通過將光刻膠均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上,利用它的光化學(xué)敏感性,通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計在掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上。

光刻膠常被稱為是精細(xì)化工行業(yè)技術(shù)壁壘的材料,是因為微米級乃至納米級的圖形加工對其專用化學(xué)品的要求極高,不僅化學(xué)結(jié)構(gòu)特殊,品質(zhì)要求也很苛刻,所以生產(chǎn)工藝復(fù)雜,需要長期的技術(shù)積累。

被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是電子制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細(xì)加工,同時在LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應(yīng)用,是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。

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硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?

注意事項:

①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠;

②看光刻機(jī)型式,若是投影方式,用常規(guī)負(fù)膠時氮?dú)猸h(huán)境可能會有些問題

③負(fù)性膠價格成本低,正性膠較貴;

④工藝方面:負(fù)性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽;

⑤健康方面:負(fù)性膠為有機(jī)溶液處理,不利于環(huán)境;正性膠屬于水溶液,對健康、環(huán)境無害。

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