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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應(yīng)美國(guó)Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢(shì): 1. 比較高的光刻速度,可以定制光刻速度來(lái)曝光產(chǎn)量 2. 比較高的分辨率和快的顯影時(shí)間 3. 根據(jù)曝光能量可以比較容易的調(diào)整側(cè)壁角度 4. 耐溫可以達(dá)到100攝氏度 5. 用RR5去膠液可以很容易的去膠 NR9-3000PY的制作和工藝是根據(jù)職業(yè)和環(huán)境的安全而設(shè)計(jì)。顯影完成后通常進(jìn)行工藝線的顯影檢驗(yàn),通常是在顯微鏡下觀察顯影效果,顯影是否徹底、光刻膠圖形是否完好。
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NR77-15000P
9,去膠:濕法去膠,用溶劑、用NONG硫酸。隨著12寸先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)線的興建和多次曝光工藝的大量應(yīng)用,193nm及其它先進(jìn)光刻膠的需求量將快速增加。負(fù)膠,98%H2SO4 H2O2 膠=CO CO2 H2O,正膠:BIN酮,干法去膠(ash)氧氣加熱去膠O2 膠=CO CO2 H2O,等離子去膠Oxygenplasma ashing,高頻電場(chǎng)O2---電離O- O , O 活性基與膠反應(yīng)CO2,CO, H2O, 光刻檢驗(yàn)
NR77-20000P
正膠PR1-2000A1技術(shù)資料
正膠PR1-2000A1是為曝光波長(zhǎng)為365 或者436納米,可用于晶圓步進(jìn)器、掃描投影對(duì)準(zhǔn)器、近程打印機(jī)和接觸式打印機(jī)等工具。PR1-2000A1可以滿足對(duì)附著能力較高的要求,在使用PR1-2000A1時(shí)一般不需要增粘劑,如HMDS。
相對(duì)于其他的光刻膠,PR1-2000A1有如下的一些額外的優(yōu)勢(shì):
PEB,不需要后烘的步驟;
較高的分別率;
快速顯影;
較強(qiáng)的線寬控制;
蝕刻后去膠效果好;
在室溫下有效期長(zhǎng)達(dá)2年。
NR9-1000py
問題回饋:
1.我們是LED制造商,麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。
A 據(jù)我所知,F(xiàn)uturrex
有幾款膠很,NR7-1500P
NR7-3000P是專門為離子蝕刻
設(shè)計(jì)的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應(yīng)用。
2.請(qǐng)問有沒有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品?
A 美國(guó)光刻膠,F(xiàn)uturrex
正膠PR1-2000A
, 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問題。
3.你們是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的應(yīng)用產(chǎn)品?
A 我們建議使用Futurrex
PR1-500A , 它有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn):比較好的解析度,比較好的線寬控制,
反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~
4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?
A Futurrex, NR7 serious(負(fù)光阻)Orpr1 serious(正光阻),再經(jīng)過HMCTS
silyiation process,可以達(dá)到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。
5.厚膜光阻在鍍金應(yīng)用上,用哪一種比較理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。
6.請(qǐng)教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合?
A 可以考慮使用Futurrex
,正型光阻PR1,負(fù)型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7.請(qǐng)問,那位專家知道,RIE
Mask,用什么光阻比較好?
A 正型光阻用PR1系列,負(fù)型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。
8.一般厚膜制程中,哪一種光阻適合?
A NR9-8000P有很高的深寬比(超過4:1),一般厚膜以及,MEMS產(chǎn)品的高需求。
9.在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?
A 建議不使用,因?yàn)槭褂肗R5-8000更加理想和適合。
10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻適合?
A 有一種膠很適合,美國(guó)Futurrex
生產(chǎn)的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers