佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率，漏率越大，進(jìn)入爐內(nèi)的雜氣就越多，不管真空度多高，這會(huì)嚴(yán)重影響鍍膜過程中爐內(nèi)氣氛的純度和工件表面的潔凈度，會(huì)破壞膜層的結(jié)合力和膜層顏色的純度。

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時(shí)等離子體密度也減弱，動(dòng)能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差

輝光清洗：對工件施加負(fù)偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強(qiáng)的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時(shí)一開始就強(qiáng)轟擊，可能產(chǎn)生強(qiáng)烈的打火而損傷工件。

佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

離子鍍工藝則有所不同，雖然也是在真空罩內(nèi)進(jìn)行的，但這時(shí)鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實(shí)現(xiàn)的。也就是說，蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相當(dāng)于一個(gè)從槍g中射出的高速彈頭，可以穿入靶體很深，在工件上形成一種附著牢固的擴(kuò)散鍍層。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：烘烤溫度：真空室抽氣時(shí)烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣，這是保證膜色調(diào)純正的重要因素之一。

普通真空鍍膜時(shí)，蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴(kuò)散深度通常僅為幾百個(gè)埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。而離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。當(dāng)其高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。鍍膜原理陰極真空磁控濺射的特點(diǎn)：膜層厚度均勻、鍍膜速度快、基板溫度低。