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光刻膠的應(yīng)用
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為什么現(xiàn)在還有人使用負性膠
劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過程中,正性光刻膠曝過光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區(qū)域保持不變。負性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙猓毓獾膮^(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是較好的,因此在IC制造中的應(yīng)用更為普及,但MEMS系統(tǒng)中,由于加工要求相對較低,光刻膠需求量大,負性膠仍有應(yīng)用市場。
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光刻膠的成分
樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì) ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,他對光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會發(fā)生反應(yīng)。曝光時間、光源所發(fā)射光線的強,度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質(zhì),為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進行溶解,形成液態(tài)物質(zhì),并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。
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