鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬，雙向觀測，冷錐消除尾焰，具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，有效穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析測試協(xié)會(huì)組織業(yè)內(nèi)專家在北京對鋼研納克檢測技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項(xiàng)成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定專家組成員包括：清華大學(xué)張新榮、中國分析測試協(xié)會(huì)張渝英、中國分析測試協(xié)會(huì)汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測技術(shù)有限公司賈云?？偨?jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項(xiàng)目負(fù)責(zé)人及項(xiàng)目骨干出席本次專家鑒定會(huì)。

本次鑒定會(huì)由鑒定專家組組長張新榮主持，項(xiàng)目組向?qū)＜医M成員詳細(xì)匯報(bào)了成果情況，專家組審議了成果研制報(bào)告、成果查新報(bào)告、檢驗(yàn)報(bào)告和用戶報(bào)告等項(xiàng)目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場操作演示，進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上，專家們進(jìn)行了認(rèn)真討論，一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結(jié)論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動(dòng)匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點(diǎn)火，電路具有全自動(dòng)保護(hù)功能；具有儀器參數(shù)自動(dòng)優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口，可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng)，可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫等創(chuàng)新點(diǎn)。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實(shí)現(xiàn)銷售，具有良好市場前景。

鋼研納克“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”項(xiàng)目順利通過驗(yàn)收

2016年4月12日，北京市科學(xué)技術(shù)會(huì)在鋼研納克永豐產(chǎn)業(yè)基地主持召開了國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”項(xiàng)目(項(xiàng)目編號2011YQ140147)初步驗(yàn)收會(huì)議。

本次初步驗(yàn)收會(huì)由李建玲處長主持，會(huì)議成立了項(xiàng)目初步驗(yàn)收技術(shù)專家組，金國藩院士作為專家組組長。專家組聽取了項(xiàng)目及各承擔(dān)單位的匯報(bào)，審閱了相關(guān)資料，進(jìn)行了現(xiàn)場檢查，經(jīng)質(zhì)詢和討論，終形成了驗(yàn)收評審意見。

和專家一致認(rèn)為項(xiàng)目驗(yàn)收材料齊全、規(guī)范，符合驗(yàn)收要求。項(xiàng)目成功開發(fā)出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的ICP全譜光譜儀、ICP質(zhì)譜儀兩種痕量分析儀器整機(jī)，實(shí)現(xiàn)推廣應(yīng)用;攻克了ICP射頻源、四極桿射頻源、激光燒蝕固體直接進(jìn)樣系統(tǒng)、多位自動(dòng)進(jìn)樣裝置、基于中階梯光柵和大面積CCD采集的高分辨二維分光系統(tǒng)、碰撞反應(yīng)池、中階梯光柵刻劃、四極桿等關(guān)鍵部件、關(guān)鍵技術(shù)及核心元器件技術(shù)和工藝難題;針對國內(nèi)用戶的普遍特點(diǎn)和特殊需求，在儀器中集成了多功能開放性軟件、譜線和分析方法數(shù)據(jù)庫，提升國產(chǎn)分析儀器的國際競爭力。項(xiàng)目執(zhí)行期內(nèi)共完成了分析方法、應(yīng)用、對比報(bào)告51篇，形成行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)8項(xiàng)，38項(xiàng)(其中授權(quán)19項(xiàng))，軟件著作權(quán)4項(xiàng)，發(fā)表65篇。項(xiàng)目預(yù)期目標(biāo)全部實(shí)現(xiàn)。

在工程化和產(chǎn)業(yè)化方面，項(xiàng)目牽頭單位已經(jīng)在永豐建成ICP光譜儀、ICP質(zhì)譜儀產(chǎn)業(yè)基地，將可靠性管理的理論、工具、方法和裝備應(yīng)用于分析儀器開發(fā)的全流程，建立了完整的質(zhì)量管理體系，建設(shè)了ICP射頻源、激光燒蝕進(jìn)樣系統(tǒng)、ICP全譜光譜儀、ICP質(zhì)譜儀4條生產(chǎn)線。ICP全譜光譜儀已經(jīng)獲得生產(chǎn)許可證書，產(chǎn)品已經(jīng)銷售至寧夏、浙江、山東、新疆、湖南、河南及國外(伊朗)等地，產(chǎn)品經(jīng)過安裝和調(diào)試，均順利通過驗(yàn)收。