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icp光譜儀報價貨真價實

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發(fā)布時間:2020-07-23 10:55  






鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點

1.   分析流程全自動化控制,實現(xiàn)軟件點火、氣路智能控制功能;

2.   輸出功率自動匹配調諧,功率參數(shù)程序設定;      

3.   優(yōu)良的光學系統(tǒng),先進的控制系統(tǒng),保證峰位定位準確,信背比優(yōu)良;

4.   較小的基體效應;      

5.   測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級;

6.   檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達ppb級;

7.   良好的測量精度,穩(wěn)定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國家A等級標準(JJG768-2005);

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;

9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調,可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;

11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長短期精度;

12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩(wěn)定;

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。

14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大,提供了多種方法,如內標校正、IECS和QC監(jiān)測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。



鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫:(30±0.2)℃      

3.   光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率:不大于0.007nm  

5.   刻線密度:3600g/mm          

6.   高頻發(fā)生器震蕩頻率:40.68MHz   功率穩(wěn)定度:0.1%(長期25℃典型值)

7.   震蕩類型:自激式        

8.   進樣方式:蠕動泵進樣

配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室)

9.   霧1化器:同心霧化1器

10. 重復性:RSD ≤1.0%

11. 穩(wěn)定性:RSD ≤2.0%(2小時)

12. 冷卻氣:10-20L/min

13. 輔助氣:0-1.5 L/min

14. 載氣:0.4-1L/min

15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)

16. 重量:240公斤



鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重  量:約 180kg

光學系統(tǒng)

分析譜線范圍:165-950nm

分  辨  率: 0.007nm@200nm

光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024

單像素面積:24μm x 24μm

工作環(huán)境

實驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%

排  風:不小于 400 立方米 / 小時

電  源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA



鋼研納克擬負責起草ICP-AES國家標準

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標準

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日,國家標準委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標準項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業(yè)聯(lián)合會,歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標準化技術會,起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司,計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標準將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存。

據(jù)介紹,制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性,使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準入門檻,形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距,提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年,2009年10月,鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年,鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀,采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集,該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。



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