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河北國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀廠家廠家直供「鋼研納克」

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-10 10:07  






鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點(diǎn)

1.   分析流程全自動(dòng)化控制,實(shí)現(xiàn)軟件點(diǎn)火、氣路智能控制功能;

2.   輸出功率自動(dòng)匹配調(diào)諧,功率參數(shù)程序設(shè)定;      

3.   優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),先進(jìn)的控制系統(tǒng),保證峰位定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;

4.   較小的基體效應(yīng);      

5.   測(cè)量范圍寬,超微量到常量的分析,動(dòng)態(tài)線性范圍5—6個(gè)數(shù)量級(jí);

6.   檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級(jí);

7.   良好的測(cè)量精度,穩(wěn)定性相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國(guó)家A等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)(JJG768-2005);

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;

9.   光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨(dú)立可調(diào),可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨(dú)設(shè)置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;

11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長(zhǎng)短期精度;

12. 多通道蠕動(dòng)泵進(jìn)樣,保證儀器進(jìn)樣均勻,工作穩(wěn)定;

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時(shí)使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。

14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設(shè)計(jì),操作方便,終身免費(fèi)升級(jí)。功能強(qiáng)大、友好的人機(jī)界面分析軟件,可在測(cè)定過(guò)程中,進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結(jié)果分析,是真正的多任務(wù)工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大,提供了多種方法,如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測(cè)功能等,可獲得的背景扣除點(diǎn)以消除干擾;對(duì)輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動(dòng)生成Excel格式的結(jié)果報(bào)告。




鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測(cè),冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,有效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過(guò)程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。




由鋼研納克承擔(dān)的國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專項(xiàng)開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問(wèn)題,接近于商品水平的產(chǎn)品樣機(jī)將于年內(nèi)完成;ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機(jī)已成功組裝和調(diào)試,采集到正確的譜圖,這一突破標(biāo)志著在第二代樣機(jī)上采用的自主設(shè)計(jì)的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個(gè)關(guān)鍵、難點(diǎn)技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項(xiàng)目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。



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