鋼研納克SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀采用高分辨率線陣CCD（Charge-coupled Device）作為檢測器，實(shí)現(xiàn)全譜掃描，可以廣泛適用于多種基體金屬樣品的全元素成分分析。SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀優(yōu)點(diǎn)不再受光電倍增管排布的空間限制，可以任意增加分析元素，無需增加硬件，維護(hù)保養(yǎng)方便。光譜儀激發(fā)光源為激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料，原位單次放電采集技術(shù)有效提高分析精度，網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)。

1.    采用多個(gè)CCD對可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描

2.    激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料

3.    分析應(yīng)用覆蓋面廣泛，與傳統(tǒng)儀器相比，不受通道及基體限制

4.    單板式透鏡架，擦拭時(shí)大大降低對光室的污染

5.    基于ARM9的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)

6.    網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)

7.    固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性

8.    銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能

想必大家對鋼研納克SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀有了更深刻的了解,想知道更多便攜式X熒光光譜儀，拉曼光譜儀,手持式X熒光光譜儀等不同類型光譜儀的資訊，敬請關(guān)注鋼研納克檢測技術(shù)有限公司=網(wǎng)站。

硫是有害的雜質(zhì)，在鋼中要嚴(yán)格限制其含量。硫作為常規(guī)分析非金屬元素，其激發(fā)產(chǎn)生的特征波長較長，能量較低，受光路的影響較大，所以它是光譜儀分析元素中較為敏感的元素。在日常分析中，儀器的飄移，如電源異常、設(shè)備震動(dòng)、光電倍增管的老化等所造成的影響對硫來說，激發(fā)強(qiáng)度一般都是向低端偏離，容易出現(xiàn)數(shù)據(jù)的不準(zhǔn)確性。

儀器測定結(jié)果偏差較大，分析結(jié)果不穩(wěn)定該如何處理？

1）檢查分析方法是否正確，如分析模型、分析程序等；

2）儀器本身穩(wěn)定：檢查儀器光室溫度、內(nèi)部環(huán)境溫度、氣壓力是否滿足分析要求；

3）激發(fā)控樣：若控樣分析結(jié)果良好，說明儀器性能不存在問題，待測樣品可能存在偏析、縮孔、裂紋等缺陷；

4）控樣結(jié)果也存在較大問題時(shí)，應(yīng)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)化；

5）清理火花臺(tái)，擦拭透鏡或平鏡，清理排污通道，更換氣等，然后重新校準(zhǔn)曲線；

6）外界條件符合要求：室溫、濕度在規(guī)定范圍內(nèi)；電源電壓穩(wěn)定；周圍無大功率、強(qiáng)輻射電器運(yùn)作；地線連接良好等；

7）對部分基體中的特別元素需要延長儀器穩(wěn)定時(shí)間。

若還存在問題，請聯(lián)系鋼研納克售后工程師。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。

光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。