PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

PVD鍍膜膜層的特點：采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

在PVD技術下，用于制備薄膜材料的物質，統(tǒng)稱為PVD鍍膜材料。經(jīng)過多年發(fā)展，PVD技術已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術CVD技術是在高溫下依靠化學反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜材料的技術。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關系2.PVD鍍膜材料下游太陽能應用行業(yè)概況太陽能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應用于太陽能電池。按太陽能電池的結構劃分，可分為結晶硅和薄膜太陽能電池二大族群。

鋁是熱鍍鋅中zui常用的添加元素。在鋅液中添加不同濃度的鋁可以獲得不同性質的鍍鋅層。

一般認為熱鍍鋅時，在鋅液中加入<1%(質量分數(shù)，下同)的鋁可以起到下列作用：①提高鍍層光亮性;②減少鋅液面的氧化;③抑制脆性Fe—Zn相的形成而獲得粘附性好的鍍層。而在實際生產(chǎn)中，鋅液中含有0.005%～0.020%Al就可以達到鍍層光亮的目的，并可減少鋅液表面的氧化和鋅灰的產(chǎn)生。

采用Zn—Al中間合金的添加方式m往往由于添加的中間合金的質量問題以及添加鋁和鋅鋁合金的方法不當或過快，導致鋅液中形成大量的鋁、鐵化合物，此鋅鋁鐵三元“面渣”或顆粒懸浮在鋅液表面而且十分粘稠，極易粘附在鋼鐵制件上，嚴重損害了鍍層質量，此時僅靠降溫撈渣是沒用的。