湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

濺射靶起輝放電后，當(dāng)電源的輸出脈沖的重復(fù)頻率足夠高時(shí)，由于真空腔體內(nèi)的導(dǎo)電離子還沒有完全被中和完畢，第二個(gè)(以后)重復(fù)脈沖的復(fù)輝電壓與濺射靶的工作電壓接近或相同。當(dāng)電源輸出脈沖的重復(fù)頻率很低(例如幾百HZ以下)或滅弧時(shí)間過長(大于100ms以上)，濺射靶起輝放電后，由于真空腔體內(nèi)的導(dǎo)電離子已基本被中和掉，第二個(gè)(以后)重復(fù)脈沖的復(fù)輝電壓恢復(fù)至較高數(shù)值，與點(diǎn)火起輝時(shí)的高電壓接近或相同。當(dāng)電子能f提高，也就是增強(qiáng)電場的操作參數(shù)，則能使電暈放電過渡到輝光放電。??

Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD，即當(dāng)所用工作電壓頻率高到半個(gè)周期內(nèi)可在極板之間捕獲正離子，又不高到使電子也被1捕獲時(shí)，將在氣體間隙中留下空間電荷，它們影響下半個(gè)周期放電，使所需放電場強(qiáng)明顯降低，有利于產(chǎn)生均勻的APGD。

Roth等人在實(shí)驗(yàn)室的一臺氣體放電等離子體實(shí)驗(yàn)裝置中實(shí)現(xiàn)了Ar、He和空氣的“APGD”。1993年Okazaki小組利用金屬絲網(wǎng)（絲直徑0.035mm，325目）電極為PET膜（介質(zhì)）、頻率為50Hz的電源，在1.5mm的氣體（亞氣、氮?dú)?、空氣）間隙中做了大量的實(shí)驗(yàn)，并宣稱實(shí)現(xiàn)了大氣壓輝光放電。輝光放電是當(dāng)氣體越過電暈放電區(qū)后，若減小外電路電阻，或提高全電路電壓，繼續(xù)增加放電功率，放電電流將不斷上升。

2003年，國家自然科學(xué)基2金委2員會(huì)將“大氣壓輝光放電”列為國家重點(diǎn)研究項(xiàng)目。APGD的研究也取得了一些進(jìn)展，如He、Ne、Ar、Krypton惰性氣體在大氣壓下基本實(shí)現(xiàn)了APGD，空氣也已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了用眼睛看上去比較均勻的準(zhǔn)“APGD”。兩種靶電源不同之處：選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源，因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續(xù)調(diào)節(jié)，鍍膜時(shí)電源的工藝參數(shù)適應(yīng)范圍比“經(jīng)濟(jì)型”中頻靶電源要寬很多。