PET真空鍍膜設(shè)備相關(guān)問(wèn)題的解決方法

PET真空鍍膜設(shè)備平均水消耗量為0.6m3/小時(shí)，每小時(shí)平均耗電：850W，每30天更換5次過(guò)濾芯，更換過(guò)濾芯數(shù)量20只，每天消耗過(guò)濾芯數(shù)量：0.7只，過(guò)濾芯可后級(jí)更換前級(jí)，更換周期也可根據(jù)具體情況延長(zhǎng)。

設(shè)備在交付時(shí)會(huì)提供操作、調(diào)試、維修等一系列全套技術(shù)資料，包括操作和維修手冊(cè)。維修手冊(cè)中含電路圖、氣路圖、水管路圖，并列出控制設(shè)備、控制元件、易耗品以及易磨損的部件名稱、型號(hào)、規(guī)格、制造商或供應(yīng)商，以便用戶可以隨時(shí)修理與維護(hù)清洗設(shè)備。

ITO真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)特點(diǎn)

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨(dú)立門閥-插板閥隔開(kāi)，能夠完成有用隔斷，安穩(wěn)技能氣體?，F(xiàn)在咱們至成真空科技選用插板閥規(guī)劃，它比現(xiàn)在國(guó)內(nèi)通用的翻板閥密封作用非常好，更經(jīng)用。

3)傳動(dòng)選用磁導(dǎo)向，確保傳動(dòng)的安穩(wěn)性。整條出產(chǎn)線的各段速度選用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，運(yùn)轉(zhuǎn)速度可調(diào)理。

4)真空電鍍?cè)O(shè)備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動(dòng)操控，人機(jī)對(duì)話辦法來(lái)完成體系的數(shù)據(jù)顯現(xiàn)、操作與操控

多弧離子PVD鍍膜設(shè)備鍍工藝及應(yīng)用

離子鍍基本工藝流程

①工件的預(yù)熱．

一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對(duì)工件進(jìn)行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對(duì)工件加熱，達(dá)到預(yù)熱的目的，有時(shí)電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對(duì)工件進(jìn)行預(yù)熱。

②離子轟擊濺射清洗．

一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負(fù)偏壓，利用輝光放電產(chǎn)生的Ar離子轟擊基片，對(duì)基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽(yáng)級(jí)，Ar離子轟擊基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對(duì)工件加熱的同時(shí)對(duì)工件進(jìn)行離子轟擊濺射清洗。

③離子沉積.

不同的離子鍍方法在離子沉積時(shí)，所使用的源和離化方法不同，具體的設(shè)備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數(shù)也不同，因此，應(yīng)根據(jù)具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數(shù)，還應(yīng)注意在整個(gè)沉積過(guò)程中保持工藝參數(shù)的穩(wěn)定。

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么優(yōu)勢(shì)

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼、硬質(zhì)合金上、鈦合金、陶瓷等表面，對(duì)鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。

多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)具有以下特點(diǎn)：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場(chǎng)可以改善電弧放電；使電弧細(xì)碎；旋轉(zhuǎn)速度加快；細(xì)化膜層微粒；對(duì)帶電粒子產(chǎn)生加速作用。金屬離化率高，有利于薄膜的均勻性和提高附著力，是實(shí)現(xiàn)離子鍍膜的良好工藝。一弧多用，既是蒸發(fā)源，又是預(yù)轟擊凈化源和離化源。